[發明專利]一種用化學修飾固態納米孔陣列分離溶液中雜質的方法

有效

• 申請號: 201110313515.3
• 申請日: 2011-10-15
• 公開（公告）號: CN102423636A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發明（設計）人: 謝驍;劉麗萍;吳宏文;孫峰;劉全俊;陸祖宏
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: B01D61/14
• 分類號: B01D61/14;B01D61/42;B01D57/02
• 代理公司: 南京天翼專利代理有限責任公司 32112
• 代理人: 周靜

1.一種用化學修飾固態納米孔陣列分離溶液中雜質的方法，其特征在于，所述固態納米孔陣列的面積不小于250μm²，單個納米孔直徑為1～200nm，孔密度不小于1個/μm²，孔內壁修飾有6-28bp的核酸分子、抗原分子、60-200kDa的抗體分子、50-200kDa的蛋白質分子、含6-50個氨基酸的肽分子、硅烷分子)中的一種或兩種以上的任意比例的混合物，使1-50μl含濃度為1-10nmol·ml^-1雜質分子或1μg/ml以下的雜質顆粒的溶液通過所述固態納米孔陣列時，雜質分子或顆粒被化學修飾的納米孔陣列所截留，所述硅烷分子的結構式為Y(CH₂)_nSiX_mZ_3-m，其中，n＝0～3；m＝0～3，X和Z各自獨立的為氯基、甲氧基、乙氧基或甲氧基乙氧基；Y為乙烯基、氨基、環氧基、巰基或脲基。

2.如權利要求1所述的用化學修飾固態納米孔陣列分離溶液中雜質的方法，其特征在于，單個納米孔直徑為10-50nm，納米孔陣列修飾有γ-氨丙基甲基二乙氧基硅烷，在偏置電壓驅動下，溶液通過所述固態納米孔陣列時，粒徑大于納米孔有效孔徑的雜質被截留。

3.如權利要求1所述的用化學修飾固態納米孔陣列分離溶液中特異雜質的方法，其特征在于，單個納米孔直徑為1～180nm，通過對納米孔陣列兩面加載偏置電壓，溶液中的雜質分子在電場作用下泳動至納米孔附近并與孔內壁修飾的分子結合并被截留，從而無法通過納米孔陣列進入到另外一側的溶液中，實現雜質的特異性分離。