[發明專利]確定曝光條件和掩模圖案的方法有效
| 申請號: | 201110310460.0 | 申請日: | 2011-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN102455602A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發明(設計)人: | 荒井禎 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 李穎 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 確定 曝光 條件 圖案 方法 | ||
1.一種確定用于曝光裝置的曝光條件和掩模圖案的方法,所述曝光裝置經由投影光學系統將掩模圖案投影到基板上以將基板曝光,
所述方法包括:
第一步驟,設定曝光條件和掩模圖案;
第二步驟,使用在第一步驟中設定的曝光條件、使用描述通過投影光學系統在基板上形成的掩模圖案的圖像的質量的指標的第一評價函數來暫時確定掩模圖案;
第三步驟,使用在第二步驟中暫時確定的掩模圖案和在第一步驟中設定的曝光條件,計算描述通過投影光學系統在基板上形成的掩模圖案的圖像的質量的指標的第二評價函數的值;
第四步驟,基于在第三步驟中計算的第二評價函數的值來改變曝光條件和掩模圖案;以及
第五步驟,包括判斷是否要在將在第四步驟中改變的曝光條件和掩模圖案定義為初始值之后執行重復第二步驟和第三步驟的處理的處理,
其中,在第五步驟中,如果第二步驟和第三步驟的重復次數還沒有達到預定的數量并且在最新的第三步驟中計算的第二評價函數的值還沒有達到允許范圍,那么判斷要執行重復第二步驟和第三步驟的處理;或者,如果第二步驟和第三步驟的重復次數已達到了預定的數量或者在最新的第三步驟中計算的第二評價函數的值已達到了允許范圍,那么判斷將不執行重復第二步驟和第三步驟的處理,并且,在最新的第二步驟中暫時確定的掩模圖案和在最新的第四步驟中改變的曝光條件分別被確定為掩模圖案和曝光條件。
2.根據權利要求1的方法,其中,
第二步驟包含:
通過改變掩模圖案而獲得由第一評價函數描述的指標的值的步驟;
基于所獲得的每一個指標的值的變化量和掩模圖案的變化量而計算表示所獲得的每一個指標的值關于掩模圖案的變化量的變化率的靈敏度的步驟;以及
根據所計算的每一個指標的靈敏度以及所獲得的每一個指標的值與該指標的值的目標值的差值而確定下一個要評價的掩模圖案的步驟。
3.一種確定用于曝光裝置的曝光條件和掩模圖案的方法,所述曝光裝置經由投影光學系統將掩模圖案投影到基板上以將基板曝光,
所述方法包括:
第一步驟,設定曝光條件和掩模圖案;
第二步驟,使用在第一步驟中設定的掩模圖案、使用描述通過投影光學系統在基板上形成的掩模圖案的圖像的質量的指標的第一評價函數來暫時確定曝光條件;
第三步驟,使用在第一步驟中設定的掩模圖案和在第二步驟中暫時確定的曝光條件,計算描述通過投影光學系統在基板上形成的掩模圖案的圖像的質量的指標的第二評價函數的值;
第四步驟,基于在第三步驟中計算的第二評價函數的值來改變曝光條件和掩模圖案;以及
第五步驟,包括判斷是否要在將在第四步驟中改變的曝光條件和掩模圖案定義為初始值之后執行重復第二步驟和第三步驟的處理的處理,
其中,在第五步驟中,如果第二步驟和第三步驟的重復次數還沒有達到預定的數量并且在最新的第三步驟中計算的第二評價函數的值還沒有達到允許范圍,那么判斷要執行重復第二步驟和第三步驟的處理;或者,如果第二步驟和第三步驟的重復次數已達到了預定的數量或者在最新的第三步驟中計算的第二評價函數的值已達到了允許范圍,那么判斷將不執行重復第二步驟和第三步驟的處理,并且,在最新的第二步驟中暫時確定的曝光條件和在最新的第四步驟中改變的掩模圖案分別被確定為曝光條件和掩模圖案。
4.根據權利要求3的方法,其中,
第二步驟包含:
通過改變曝光條件而獲得由第一評價函數描述的指標的值的步驟;
基于所獲得的每一個指標的值的變化量和曝光條件的變化量而計算表示所獲得的每一個指標的值關于曝光條件的變化量的變化率的靈敏度的步驟;以及
根據所計算的每一個指標的靈敏度以及所獲得的每一個指標的值與該指標的值的目標值的差值而確定下一個要評價的曝光條件的步驟。
5.根據權利要求2的方法,其中,由用戶輸入的值被設定為每一個指標的靈敏度的初始值。
6.根據權利要求2的方法,其中,如果在計算靈敏度的步驟中所計算的靈敏度沒有落入事先設定的允許值,那么所計算的靈敏度被校正為落入允許范圍的靈敏度。
7.根據權利要求1的方法,其中,第一步驟中的優化使用下坡式單純形法。
8.根據權利要求1的方法,其中,
第一評價函數包含以投影光學系統的像平面上的線寬誤差、圖案的偏移量、圖案邊緣的偏移量、以及NILS中的至少一個作為變量的函數,以及
第二評價函數包含以投影光學系統的像平面上的線寬誤差、圖案的偏移量、圖案邊緣的偏移量、NILS、圖像的對比度、焦深、以及曝光裕度中的至少一個作為變量的函數。
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