[發(fā)明專利]金屬箔疊層體的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110310129.9 | 申請日: | 2011-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN102490436A | 公開(公告)日: | 2012-06-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 莇昌平;沈昌補;伊藤豐誠 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | B32B37/06 | 分類號: | B32B37/06;B32B37/10 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 蔡曉菡;高旭軼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬 箔疊層體 制造 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明主要涉及一種用于制造金屬箔疊層體的方法,其中該金屬箔疊層體作為用于印刷電路板的材料使用。
背景技術
電子設備的多功能化在逐年加速發(fā)展。由于該多功能化,除了迄今在半導體封裝領域的發(fā)展,安裝電子元件的印刷電路板也需要更高的性能。例如,為了滿足例如電子設備的小型化和輕質化的需要,增加印刷電路板密度的需求提高。因而,布線基底的多層化、布線間距的狹窄化以及通路孔(via?hole)的微型化已經取得進展。
作為至今已經在印刷電路板中使用的材料,金屬箔疊層體具有以下構造,即其中作為導電構件的金屬箔如一對銅箔,貼附在絕緣基材的兩側,該絕緣基材包括例如酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂或液晶聚酯等熱固性樹脂。
當例如采用JP-A-2000-263577中公開的方法制造這種金屬箔疊層體時,絕緣基材依次插入到一對金屬箔之間以及一對金屬板之間,隨后使用熱壓設備的一對上下熱壓板(hot?platen)加熱和加壓。
發(fā)明內容
然而,根據JP-A-2000-263577公開的技術,絕緣基材的面積與金屬板的面積之比(通過絕緣基材的面積除以金屬板的面積得到的值)小,例如為約0.5-0.6。因此,特別是當金屬箔疊層體尺寸大時,金屬箔疊層體的密合性是不夠充分的,并因此在一些情況中,該金屬箔層有可能會從該絕緣基材上剝離。
在這種情況下,本發(fā)明的一個目的是提供一種制造金屬箔疊層體的方法,甚至在所述金屬箔疊層體尺寸大時,其也能夠充分地增加金屬箔疊層體的密合性。
為了達到所述目的,本發(fā)明人發(fā)現,當依次將絕緣基材插入到一對金屬箔之間和一對金屬板之間,然后進行加熱和加壓時,為了增加金屬箔疊層體的密合性,絕緣基材的面積與金屬板的面積之比是十分重要的,由此,完成了本發(fā)明。
即,本發(fā)明提供了一種用于制造金屬箔疊層體的方法,該方法包括:依次將絕緣基材插入到一對金屬箔之間和一對金屬板之間,然后進行加熱和加壓來制造金屬箔疊層體,在該金屬箔疊層體中所述一對金屬箔貼附在絕緣基材的兩側,其中,絕緣基材的面積與各金屬板的面積之比為0.75-0.95。
根據本發(fā)明,由于絕緣基材與金屬板的面積比被限定至特定的范圍,因此甚至在該金屬箔疊層體尺寸大的時候,也可充分地提高金屬箔疊層體的密合性。
附圖說明
圖1為本發(fā)明第一實施方式的金屬箔疊層體的視圖,其中圖1A為其透視圖,圖1B為其截面圖;
圖2為截面圖,其圖示了第一實施方式的制造金屬箔疊層體的方法;
圖3為第一實施方式的熱壓裝置的結構示意圖;和
圖4為截面圖,其圖示了本發(fā)明第二實施方式制造金屬箔疊層體的方法。
具體實施方式
下文中將詳細說明本發(fā)明的實施方式。
(本發(fā)明的第一實施方式)
在圖1至圖3中,圖示了本發(fā)明的第一實施方式。在第一實施方式中,描述了一級結構(one-stage?configuration),即通過單次熱壓制造一個金屬箔疊層體的情形。在圖2中,為了便于理解,各構件以相互分離的狀態(tài)示出。
如圖1所示,第一實施方式的金屬箔疊層體1包括正方形板狀(square?plate-shape)樹脂浸制基材2和正方形片狀(square?sheet-shape)銅箔3(3A,3B),其中正方形片狀銅箔3(3A,3B)一體地貼附在樹脂浸制基材2的上表面和下表面。其中,如圖1B所示,各銅箔3具有兩層結構,該兩層結構包括毛面3a和光面3b,并且毛面3a側與樹脂浸制基材2接觸。各銅箔3的尺寸(正方形的一邊)都略大于樹脂浸制基材2。為了獲得具有所需表面平滑度的金屬箔疊層體1,從易于使用和操作的角度出發(fā),希望各銅箔3具有18μm以上且100μm以下的厚度。
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