[發明專利]二維回轉運動的誤差測量方法及其磁力量規無效
| 申請號: | 201110309869.0 | 申請日: | 2011-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN102506696A | 公開(公告)日: | 2012-06-20 |
| 發明(設計)人: | 王印;張瀟;黃紅亮;李悅;何榮軍;王曉錚 | 申請(專利權)人: | 廣州中國科學院工業技術研究院 |
| 主分類號: | G01B7/30 | 分類號: | G01B7/30 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 曾旻輝 |
| 地址: | 511458 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二維 回轉 運動 誤差 測量方法 及其 磁力 量規 | ||
技術領域
本發明涉及一種測量方法,尤其是指一種二維回轉運動的誤差測量方法及其磁力量規。
背景技術
在任意二維回轉運動過程中,對轉軸綜合轉角精度檢測在國際、國內仍是一個難點,例如,在數控機床中兩轉軸工作臺綜合轉角精度的檢測。目前,傳統的檢測方法是在實驗室中對兩轉軸工作臺的各個轉軸進行單獨的轉角誤差測試,而且必須使用類似自準直儀這種昂貴的光學儀器,對高精度多面體進行等間隔轉角測量。但是這種檢測方法不適用于在生產現場對數控機床運行狀態進行實時監控,而且檢測完成后的數據對機床運動精度分析和誤差補償也無實際價值,因為轉動工作臺各個轉軸單獨的轉動誤差并不能完全反應工作臺兩軸同時動作后的真實結果。
發明內容
本發明的發明目的是提供一種能夠克服現有技術的技術問題、能夠準確測量二維回轉運動裝置的誤差的二維回轉運動的誤差測量方法及其磁力量規。
本發明是這樣實現的:
一種磁力量規,其包括有磁力本體,所述磁力本體上設有一對標識。
優選的是,所述對標識印刷或貼附于所述磁力本體上。
優選的是,所述對標識為相同符號或不相同符號。
本發明還提供一種二維回轉運動的誤差測量方法,其使用如以上任一項所述的磁力量規,該測量方法包括:
步驟一:將所述磁力量規置于二維回轉運動裝置上,且所述磁力量規上的對標識的中心連線與所述二維回轉運動裝置中選定的某一坐標軸重合,并確定該中心連線的初始位置;
步驟二:通過所述二維回轉運動裝置設置其轉動的名義轉角;
步驟三:所述二維回轉運動裝置根據自身的測量方法旋轉名義轉角;
步驟四:確定所述對標識的中心連線的矢量位置,并計算出二維回轉運動裝置的實際轉角;
步驟五:計算所述名義轉角與所述實際轉角的誤差值,并將該誤差值返回所述二維回轉運動裝置的控制單元。
由于對標識中心連線是二維回轉運動裝置空間內一個可確定的矢量,該確定的矢量的位置變化是二維回轉運動裝置的兩個回轉運動共同作用的結果,因此,可通過測量所述對標識中心連線的矢量位置的變化量計算出在二維回轉運動中兩個回轉運動共同作用的實際轉角。
通過將設置于所述磁力量規上的對標識的中心連線與所述二維回轉運動裝置中選定的某一坐標軸重合,在給定所述二維回轉運動名義轉角后,所述磁力量規隨所述二維回轉運動進行二維旋轉運動,通過確定所述對標識中心連線的終點矢量位置和所述對標識中心連線的初始位置之間的夾角與名義轉角之差,確定實際轉角與名義轉角之間的誤差,即可得出所述二維回轉運動的誤差。
優選的是,所述磁力量規置于所述二維回轉運動裝置的工作臺上。
本發明二維回轉運動的誤差測量方法及其磁力量規與現有技術相比,具有如下有益效果:
本發明通過所述磁力量規能夠準確的測量二維回轉運動的誤差值,便于所述二維回轉運動的補償,以確保二維回轉運動的回轉精度;本發明二維回轉運動的誤差測量方法簡單、方便,且所述磁力量規結構簡單,易于制造。
附圖說明
圖1為本發明磁力量規的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明的實施例進行詳細說明:
如圖1所示,本發明磁力量規,其包括有磁力本體1,所述磁力本體1上設有一對標識21、22。
所述磁力本體1可優選設置為片狀結構。所述對標識21、22通過印刷工藝或貼附工藝設置于所述磁力本體1的正面;所述對標識21、22可優選為十字圖形、圓形、三角形、線形或其它圖形,且所述對標識21、22印為相同符號或不相同符號,在本優選實施例中,所述對標識21、22均設置為十字形,兩個十字形的中心連線即為所述對標識21、22的中心連線L。
本發明還提供一種二維回轉運動的誤差測量方法,其使用如以上任一項所述的磁力量規,該測量方法包括:
步驟一:將所述磁力量規置于二維回轉運動裝置的工作臺上,且所述磁力量規上的對標識21、22的中心連線L與所述二維回轉運動裝置中選定的某一坐標軸重合,并確定該中心連線L的初始位置;
步驟二:通過所述二維回轉運動裝置設置其轉動的名義轉角;
步驟三:所述二維回轉運動裝置根據自身的測量方法旋轉名義轉角;
步驟四:確定所述對標識的中心連線的矢量位置,并計算出二維回轉運動裝置的實際轉角;
步驟五:計算所述名義轉角與所述實際轉角的誤差值,并將該誤差值返回所述二維回轉運動裝置的控制單元。
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