[發(fā)明專利]光學(xué)記錄介質(zhì)及其制造方法以及記錄設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110308909.X
• 申請日: 2011-10-12
• 公開（公告）號: CN102456365A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 坂本哲洋;山津久行;宮本浩孝
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24;G11B7/242;G11B7/253;G11B7/258
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種光學(xué)記錄介質(zhì)，包括：

記錄層，其中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標(biāo)記的記錄，且所述標(biāo)記以多層形式形成；以及

反射膜，反射波長與所述第一光的波長不同的第二光，并設(shè)置在所述記錄層的下層側(cè)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，位置引導(dǎo)元件形成在在所述反射膜中。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，所述反射膜由包含金屬作為主要成分的材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，所述反射膜被配置為對所述第一光的反射率比對所述第二光的反射率小。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，所述反射膜由包含銀(Ag)、銅(Cu)或金(Au)中任一種作為主要成分的材料制成。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，所述反射膜由合金制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，所述反射膜由銀和銅的合金制成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，覆蓋層形成在所述記錄層的上層側(cè)上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，包括兩個層單元，每個層單元都具有所述記錄層和所述反射膜，

其中，所述層單元彼此粘合，同時兩個層單元中各反射膜被彼此面對地定向以具有粘合結(jié)構(gòu)。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，進(jìn)一步包括其頂面?zhèn)壬显O(shè)置有凹凸截面形狀的基板，

其中，所述反射膜形成在所述基板的所述頂面?zhèn)壬希瑥亩鑫恢靡龑?dǎo)元件形成在所述反射膜中。

11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，在所述記錄層的底面?zhèn)壬显O(shè)置凹凸截面形狀，且通過在所述記錄層的底面?zhèn)壬闲纬煞瓷淠ぃ谒龇瓷淠ぶ行纬伤鑫恢靡龑?dǎo)元件。

12.一種光學(xué)記錄介質(zhì)的制造方法，所述方法包括在記錄層的下層側(cè)上形成反射膜，在所述記錄層中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標(biāo)記的記錄，且所述標(biāo)記以多層形式形成，所述反射膜反射波長與所述第一光的波長不同的第二光。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，進(jìn)一步包括：

生成基板，所述基板在其頂面?zhèn)壬显O(shè)置有用作引導(dǎo)凹槽的凹凸截面形狀；

在所述基板的所述頂面?zhèn)壬闲纬伤龇瓷淠ぃ灰约?/p>

將所述反射膜和所述記錄層彼此粘合。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，進(jìn)一步包括：

生成所述記錄層，所述記錄層在其底面?zhèn)壬显O(shè)置有用作引導(dǎo)凹槽的凹凸截面形狀；

在所述記錄層的所述底面?zhèn)壬闲纬伤龇瓷淠ぃ灰约?/p>

將所述反射膜和基板彼此粘合。

15.一種在光學(xué)記錄介質(zhì)中執(zhí)行記錄的記錄設(shè)備，所述光學(xué)記錄介質(zhì)包括記錄層和反射膜，在所述記錄層中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標(biāo)記的記錄，且所述標(biāo)記以多層形式形成，所述反射膜反射波長與所述第一光的波長不同的第二光，并設(shè)置在所述記錄層的下層側(cè)上，所述記錄設(shè)備包括：

物鏡，所述第一光和所述第二光入射在所述物鏡上，且所述物鏡以所述第一光和所述第二光照射所述光學(xué)記錄介質(zhì)；

物鏡聚焦機(jī)構(gòu)，在聚焦方向上驅(qū)動所述物鏡；

聚焦位置獨立調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，改變?nèi)肷湓谒鑫镧R上的所述第一光的準(zhǔn)直狀態(tài)，從而獨立于所述第二光的聚焦位置來改變所述第一光的聚焦位置；

聚焦伺服控制部，基于通過接收來自所述反射膜的對所述第二光的反射光而獲得的聚焦誤差信號來驅(qū)動所述物鏡聚焦機(jī)構(gòu)，從而對所述物鏡執(zhí)行聚焦伺服控制，以將所述第二光聚焦在所述記錄層下層側(cè)上形成的所述反射膜上；以及

控制部，控制所述聚焦位置獨立調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)以將所述第一光的聚焦位置調(diào)節(jié)至位于形成在所述反射膜的上層側(cè)上的所述記錄層中的記錄目標(biāo)層位置，并執(zhí)行控制以通過所述第一光執(zhí)行標(biāo)記記錄。