[發明專利]一種新型抗菌紡織材料的負壓濺鍍制造方法

無效

• 申請號: 201110308287.0
• 申請日: 2011-10-12
• 公開（公告）號: CN103147270A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 青島同盈家紡有限公司
• 主分類號: D06M10/00
• 分類號: D06M10/00;D06M11/83;D06M11/46;C23C14/34
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• 代理人: 暫無信息

1.一種新型抗菌紡織材料的負壓濺鍍制造方法，其特征在于先對所述紡織材料的基材作等離子體處理，隨后采用濺鍍方法在負壓下濺射銀、銅或欽的靶材制得原子、分子級銀、銅或二氧化欽，并在同時將原子、分子級的銀、銅或二氧化欽加載于紡織材料表面，所述紡織材料的基材的等離子體預處理采用介質阻擋放電低溫等離子體處理機，處理條件為：

處理時間：0.5-5min，

氣體溫度：200-350K，

氣壓為普通大氣壓；

所述在負壓下濺射銀、銅或欽的靶材時，通入氫氣作為激發氣體，在濺射欽時還同時通入氧氣以形成二氧化欽，濺鍍條件為：

時間：2-70min，

負壓：133-1x10-3，Pa。

2.如權利要求1所述的一種新型抗菌紡織材料的負壓濺鍍制造方法，其特征在于在濺鍍銀或銅之后，在現行的磁控濺射鍍膜機上作施加保護層的濺鍍處理，濺鍍材料為鐵鉆鎳合金，通入氫氣作為激發氣體，濺鍍條件為：

時間：0.5-5min，

負壓：1-10-3Pa。

3.如權利要求1和2所述的一種新型抗菌紡織材料的負壓濺鍍制造方法，其特征在于所述紡織材料是合成纖維梭織物或合成纖維非織造布。

4.一種新型抗菌紡織材料的負壓濺鍍制造方法制得的產品，其特征在于所述紡織材料有一層以原子或分子狀態濺射于其表面的銀、銅或二氧化欽的鍍膜層。