[發明專利]離子束照射方法和離子束照射裝置

無效

• 申請號: 201110306186.X
• 申請日: 2011-10-11
• 公開（公告）號: CN102655073A
• 公開（公告）日: 2012-09-05
• 發明（設計）人: 宇根英康;田中浩平;濱本成顯;藤田秀樹
• 申請（專利權）人: 日新離子機器株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/244;H01L21/67
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 周善來;李雪春

技術領域

本發明涉及通過向基板(例如平板顯示器用的玻璃基板等)照射離子束，對基板進行例如離子注入處理、離子束定向處理等處理的離子束照射裝置，更具體地說，涉及并用向基板照射帶狀(有時也稱為板狀，下面相同)離子束以及把基板向與離子束的主面交叉的方向輸送的方式的離子束照射裝置。該離子束照射裝置在向基板進行離子注入的情況下，也稱為離子注入裝置。

背景技術

為了提高平板顯示器等的生產率等，存在使基板大型化的傾向。

如果基板大型化，則為了與其相適應來實施向該基板照射離子束的處理，需要束寬大的離子束，為了與束寬大的離子束相適應，離子源等離子束供給裝置要大型化。在具有分析電磁鐵的情況下，該分析電磁鐵也要大型化。如果它們大型化，則會引起與它們的制作、輸送、成本、容納的建筑物等有關的各種各樣的問題。

作為抑制這樣的離子源等大型化的技術之一，專利文獻1中記載了一種離子束照射裝置，使用長邊方向尺寸比基板的對應邊的尺寸小的帶狀離子束，而且使基板在與離子束的主面交叉的方向上移動，在離子束照射的間歇至少采用在上下方向上改變基板位置及使基板轉動180度中的一種方式，對基板進行多次離子束照射，由此把多個離子束照射區域連在一起，對基板的整個面進行離子束照射。在用該離子束照射裝置處理的基板面內，隔著分割帶形成有作為規定處理模式的重復單位的多個單元，使連接所述多個離子束照射區域的部分位于所述分割帶上。

現有技術文獻

專利文獻1：日本專利公開公報特開2009-134923號(圖8-圖21)

為了提高平板顯示器等的生產率，存在使基板大型化的傾向。因此要求離子照射工序效率更高。作為解決對策之一提出了串聯式離子束照射裝置的方案，該方案用兩臺離子束供給裝置對基板的上半部分和下半部分照射離子。

但是，在離子束供給裝置中的一臺因處于維護中等而不能使用的情況下，就不能對基板的整個面進行離子照射。此外，存在下述要解決的問題：兩臺離子束供給裝置處于運轉中，當在某一步驟中，一臺離子束供給裝置在照射中途異常結束的情況下，也想可以對基板的整個面照射所希望的劑量。

發明內容

因此，本發明的主要目的是提供一種離子束照射方法和離子束照射裝置，在用兩臺離子束供給裝置對基板的上半部分和下半部分照射離子的串聯式離子束照射裝置中，即使在一臺離子束供給裝置停止的情況下；或者在兩臺離子束供給裝置處于運轉并開始了處理，但在某一步驟的照射中途發生了異常的情況下，也可以對基板的整個面照射所希望的劑量。

本發明提供一種離子束照射方法，其特征在于，該離子束照射方法使用離子束照射裝置，所述離子束照射裝置具備兩臺離子束供給裝置，該兩臺離子束供給裝置在用于向基板進行離子束照射的處理室中分別向所述基板照射所述離子束，由各個所述離子束供給裝置進行的離子照射的各自的范圍是所述基板的上半部分和下半部分，所述離子束照射裝置在所述處理室中，在與所述基板被輸送的方向交叉的方向上，將帶狀離子束向該帶狀離子束的主面與所述處理室中的所述基板的輸送方向交叉的方向分別提供，并與所述基板的輸送協調動作，向所述基板的整個面照射離子束，在所述離子束照射裝置中，在所述離子束照射裝置的控制裝置從一臺所述離子束供給裝置接收到該離子束供給裝置處于不能進行離子束照射的狀態的沒有完成準備的信號，并進行了一個往返的離子束照射處理之后，控制基板轉動機構，使所述基板轉動180度，然后將所述基板重新放入所述離子束照射裝置，通過一個往返的離子束照射處理，從而對所述基板的整個面進行離子束照射。

按照所述的發明，在用兩臺離子束供給裝置對基板的上半部分和下半部分照射離子的串聯式離子束照射裝置中，即使一臺離子束供給裝置處于停止中，也可以自動繼續對基板的整個面進行規定劑量的照射處理。