[發明專利]兆聲波清洗頭及具有該清洗頭的兆聲波清洗系統

有效

• 申請號: 201110304716.7
• 申請日: 2011-10-10
• 公開（公告）號: CN102327883A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發明（設計）人: 初國超;吳儀
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種兆聲波清洗頭，其特征在于，包括：

換能器；

諧振器，用于傳播來自換能器的能量；該諧振器具有上表面和下表面，上表面耦合至換能器，諧振器內部具有不通透上表面、下表面的真空的孔陣列。

2.如權利要求1所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，所述孔陣列中的孔的幾何形狀包括但不限于：圓柱式、蜂窩式。

3.如權利要求2所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，圓柱式孔的長度與等效直徑比為5∶1到10∶1。

4.如權利要求1所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，所述換能器包括：

上殼體，具有電纜接頭，通過電纜接頭能夠與功率放大器連接；

耦合層，包括壓電晶體和耦合片，壓電晶體與耦合片的上表面緊密連接，耦合層通過耦合片與上殼體耦合。

5.如權利要求4所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，所述上殼體還具有一進氣孔和一排氣孔，并且內部具有一帶有多個均布凹槽的環狀凸臺將上殼體內部分為內外兩環；由進氣孔通入的冷卻氣，通過上殼體的內環和凹槽能夠使耦合層被均勻冷卻后由排氣孔排除，從而實現對耦合層的均勻冷卻。

6.如權利要求4所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，所述耦合層還包括密封圈，設于耦合片上，用于將耦合片與上殼體耦合的耦合處密封。

7.如權利要求4所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，所述耦合片由單一介質或多介質制成，厚度為1/4波長的整數倍。

8.如權利要求4所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，該兆聲波清洗頭及所述耦合層的形狀為但不限于：圓柱形、長方形或橢圓形。

9.如權利要求4所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，所述諧振器內的孔陣列的面積略大于壓電晶體的有效面積。

10.如權利要求4所述的兆聲波清洗頭，其特征在于，所述諧振器作為下殼體，與耦合片的下表面耦合，并通過連接釘與上殼體連接。

11.一種具有如權利要求1-10中任意一項所述的兆聲波清洗頭的兆聲波清洗系統，其特征在于，還包括安裝支架，所述兆聲波清洗頭固定地或可移動地安裝于安裝支架上。