[發明專利]殼體的制備方法及該方法所制備的殼體

有效

• 申請號: 201110304370.0
• 申請日: 2011-10-10
• 公開（公告）號: CN103031555A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 王仁博;關辛午
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: C23C24/10
• 分類號: C23C24/10;B32B15/04;B32B18/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種殼體的制備方法，該殼體為金屬和陶瓷的復合殼體，包括如下步驟：

提供金屬基材；

在該金屬基材上形成陶瓷層；

利用激光熔覆該陶瓷層，使得該陶瓷層與位于其下部金屬基材部分熔融一體形成復合層；

冷卻后，對該形成有復合層的金屬基材進行熱處理；

成型加工以形成三維結構的殼體。

2.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述金屬基材為不銹鋼或鋁合金。

3.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述陶瓷層采用噴涂或涂覆的方法形成，該陶瓷層的陶瓷材料為氧化物陶瓷或碳化物陶瓷或氮化物陶瓷。

4.如權利要求3所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述陶瓷層中的陶瓷粒為10um~30um，噴涂厚度為0.03~0.08mm。

5.如權利要求3所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述陶瓷層中的陶瓷粒直徑為10um~30um，噴涂陶瓷層的厚度為0.03~0.08mm。

6.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于：激光熔覆工藝參數如下：激光器為脈沖紅寶石激光，激光介質為釹（Nd），激光波長1.06um，激光功率為2~50W，聚焦光斑直徑0.5-1.0mm，激光功率密度8MW/cm²，激光熔融深度0.1~0.5mm，激光熔融寬度10~20mm，激光束性質擺動式690-750Hz，進給速度為5~10mm/s。

7.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于：激光熔覆陶瓷與金屬基材的深度0.2~1.0mm。

8.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述熱處理工藝參數：金屬基材為不銹鋼，將該不銹鋼基材殼體的溫度0℃升到900℃的時間為30~50分鐘；保持900℃的溫度時間為60~120分鐘；升溫之后降溫，溫度由900℃降到600℃為30~60分鐘；600℃降到200℃用80~150分鐘；200℃自然降溫至室溫，完成熱處理。

9.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述熱處理工藝參數：金屬基材為鋁合金，將鋁合金基材的殼體的溫度從0℃升到600℃的時間為30~50分鐘；保持600℃的溫度時間為60~120分鐘；升溫之后降溫，溫度由600℃降到150℃為30~60分鐘；150℃降到室溫用80~150分鐘。

10.一種如權利要求1-9任一項所述制備方法所制備的殼體。