[發明專利]內窺鏡裝置

無效

• 申請號: 201110303806.4
• 申請日: 2011-09-28
• 公開（公告）號: CN102429625A
• 公開（公告）日: 2012-05-02
• 發明（設計）人: 山口博司;峰苫靖浩
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: A61B1/00
• 分類號: A61B1/00;A61B1/04;A61B1/06
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種內窺鏡裝置，包括：

第一光源部，其發射窄帶光，該窄帶光具有根據作為目標的活體的結構和組成的光譜的光譜特性變窄的波長帶寬；

第二光源部，其發射寬帶光，該寬帶光具有包括可見光區域的寬波長帶寬；

成像部，其在所述窄帶光和所述寬帶光被同時從所述第一光源部和所述第二光源部發射至所述目標之后使用從所述活體回射的光捕獲所述目標的圖像，并輸出捕獲的圖像信息；

圖像處理部，其對所述捕獲的圖像信息執行預定的圖像處理；和

成像信息檢測部，其檢測使用所述成像部捕獲所述目標的成像放大倍數或自動曝光值、或與由所述成像部捕獲的所述目標的所述活體的結構和組成相關的目標信息，作為成像信息，

其中與從所述第二光源部發射的所述寬帶光相比，從所述第一光源部發射的所述窄帶光對于所述目標的所述活體的結構和組成具有極好的可檢測性，和

其中所述第一光源部和所述第二光源部的光發射條件和所述圖像處理部的圖像處理條件基于所述成像信息檢測部檢測的所述成像信息改變，以便改變所述目標的所述活體的結構和組成的檢測和強調程度。

2.根據權利要求1所述的內窺鏡裝置，還包括：

光發射比例改變部，其改變從所述第一光源部發射的所述窄帶光和從所述第二光源部發射的所述寬帶光的光發射比例，用于改變所述第一光源部和所述第二光源部的所述光發射條件。

3.根據權利要求2所述的內窺鏡裝置，

其中所述成像信息是所述自動曝光值，和

其中所述光發射比例改變部在所述自動曝光值是小的時增加從第一光源部發射的所述窄帶光的光發射比例，且在所述自動曝光值是大的時增加從所述第二光源部發射的所述寬帶光的光發射比例。

4.根據權利要求2所述的內窺鏡裝置，

其中所述成像信息是所述成像放大倍數，和

其中所述光發射比例改變部在所述成像放大倍數是大的時增加從所述第一光源部發射的所述窄帶光的光發射比例，且在所述成像放大倍數是小的時增加從所述第二光源部發射的所述寬帶光的光發射比例。

5.根據權利要求2-4中任一項所述的內窺鏡裝置，

其中，在通過所述光發射比例改變部改變所述光發射比例時，基于所述光發射比例改變成像時間、成像處理的色調調整和所述成像部的電學增益中的至少一種，使得不改變所述捕獲圖像的白平衡。

6.根據權利要求2-5中任一項所述的內窺鏡裝置，

其中在通過所述光發射比例改變部改變所述光發射比例時，基于所述光發射比例改變成像時間、成像處理的色調調整和所述成像部的電學增益中的至少一種，使得不改變所述捕獲圖像的亮度。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的內窺鏡裝置，

其中所述圖像處理部包括圖像強調部，其基于所述成像信息改變所述捕獲圖像的頻率強調特性。

8.根據權利要求7所述的內窺鏡裝置，

其中所述成像強調部包括頻率帶強調部，其強調所述捕獲圖像中的兩個或更多的頻率帶，并且

其中所述頻率帶強調部基于所述成像信息改變包括待強調的頻率帶中的變化的所述頻率強調特性。

9.根據權利要求8所述的內窺鏡裝置，

其中所述成像信息是所述自動曝光值，并且

其中所述頻率帶強調部根據所述自動曝光值的增加將待強調的頻率帶改變至低頻側。

10.根據權利要求8或9所述的內窺鏡裝置，

其中所述成像信息是所述自動曝光值，

其中由所述頻率帶強調部強調的所述頻率帶是通帶特性，并且

其中在所述自動曝光值超過第一預定值時，所述頻率帶強調部改變待強調的所述頻率帶，以便增加待強調的所述頻率帶的寬度。

11.根據權利要求8至10中任一項所述的內窺鏡裝置，

其中所述成像信息是所述自動曝光值，并且

其中所述頻率帶強調部允許在所述自動曝光值是第二預定值或比其小時待強調的所述頻率帶具有通帶特性，且在所述自動曝光值超過所述第二預定值時將待強調的所述頻率帶改變成具有高通特性。