[發明專利]修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列及其制備方法和用途有效
| 申請號: | 201110302930.9 | 申請日: | 2011-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN103030095A | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發明(設計)人: | 唐海賓;孟國文;張倬 | 申請(專利權)人: | 中國科學院合肥物質科學研究院 |
| 主分類號: | B81B7/04 | 分類號: | B81B7/04;B81C1/00;G01N21/65 |
| 代理公司: | 合肥和瑞知識產權代理事務所(普通合伙) 34118 | 代理人: | 任崗生;王挺 |
| 地址: | 230031*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 修飾 納米 顆粒 氧化鋅 陣列 及其 制備 方法 用途 | ||
1.一種修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列,包括襯底,其特征在于:
所述襯底上置有均勻的有序豎立排列的頂端呈尖銳狀的氧化鋅納米棒組成的陣列;
所述氧化鋅納米棒的棒長為1~1.4μm、棒直徑為50~60nm;
所述氧化鋅納米棒上修飾有兩種尺寸的銀納米顆粒,其中,氧化鋅納米棒頂端的銀納米顆粒的粒徑為100~120nm,氧化鋅納米棒表面的銀納米顆粒的粒徑為25~35nm、顆粒之間的間距為≤10nm;
所述相鄰氧化鋅納米棒頂端的銀納米顆粒之間的間距為40~60nm,所述相鄰氧化鋅納米棒表面的銀納米顆粒之間的間距為25~35nm。
2.根據權利要求1所述的修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列,其特征是襯底為硅片,或導電玻璃,或金屬片。
3.一種權利要求1所述修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列的制備方法,包括電沉積法,其特征在于完成步驟如下:
步驟1,先將濃度為10~22mmol/L的醋酸鋅乙醇溶液涂覆至襯底上,待其干燥后用乙醇對其進行清洗分散,再將其上置有醋酸鋅的襯底置于300~370℃下熱分解至少20min,重復上述涂覆、分散和熱分解的過程一次以上后得到其上覆有氧化鋅種子層的襯底;
步驟2,將其上覆有氧化鋅種子層的襯底置于溫度為75~90℃、濃度為0.03~0.07mol/L的硝酸鋅氨絡合溶液中,以其為陰極、石墨片為陽極,于電流密度為0.3~0.7mA/cm2下電沉積至少3h,得到其上置有頂端呈尖銳狀的氧化鋅納米棒組成的陣列的襯底;
步驟3,將其上置有頂端呈尖銳狀的氧化鋅納米棒組成的陣列的襯底置于離子濺射儀中,使襯底與離子濺射儀中的銀靶之間的間距為1.8~2.2cm,濺射的電壓為1.2~1.4kV、電流為2.4~2.6mA,濺射時間為6~20min,制得修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列。
4.根據權利要求3所述的修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列的制備方法,其特征是襯底為硅片,或導電玻璃,或金屬片。
5.根據權利要求3所述的修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列的制備方法,其特征是重復涂覆、分散和熱分解的過程為2~5次。
6.根據權利要求3所述的修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列的制備方法,其特征是硝酸鋅氨絡合溶液的配制為,將氨水逐漸注入攪拌下的硝酸鋅溶液中,直至其由渾濁變為澄清。
7.根據權利要求3所述的修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列的制備方法,其特征是電沉積的時間為3~5h。
8.一種權利要求1所述修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列的用途,其特征在于:
將修飾有銀納米顆粒的氧化鋅納米棒陣列作為表面增強拉曼散射的活性基底,使用共聚焦拉曼光譜儀測量其上附著的羅丹明6G或多氯聯苯77的含量。
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