[發明專利]曝光裝置和曝光方法以及器件制造方法

有效

• 申請號: 201110302682.8
• 申請日: 2004-10-12
• 公開（公告）號: CN102360167A
• 公開（公告）日: 2012-02-22
• 發明（設計）人: 安田雅彥;正田隆博;金谷有步;長山匡;白石健一
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 金春實

1.一種經由液體將曝光光照射到基片上，由此來曝光上述基片 的曝光裝置，其特征在于具備：

具有保持上述基片的基片架，在上述基片架上保持上述基片并可 移動的基片臺；

供給液體的液體供給機構；

檢測在上述基片架上是否保持著基片或者虛設基片的檢測器；以 及

基于上述檢測器的檢測結果來控制上述液體供給機構的動作的 控制裝置。

2.按照權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于還具備：

用于在基片架上吸附基片的基片吸附保持機構，

上述檢測器是與基片吸附保持機構流體連接的壓力檢測器。

3.一種經由液體將曝光光照射到基片上，由此來曝光上述基片 的曝光裝置，其特征在于具備：

具有保持上述基片的基片架，在上述基片架上保持基片并可移動 的基片臺；以及

只要是在上述基片架上保持著基片或虛設基片的情況就在上述 基片臺上供給液體的液體供給機構。

4.一種經由液體將曝光光照射到基片上，由此來曝光上述基片 的曝光裝置，其特征在于具備：

保持上述基片并可移動的基片臺；以及

只要是在上述基片臺上保持著基片或虛設基片的情況就在上述 基片臺上形成浸液區域的浸液機構。

5.按照權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于：

上述基片臺在其所保持的基片或虛設基片的周圍具有與其所保 持的基片或虛設基片的表面大致同一個面的平坦部。

6.按照權利要求5所述的曝光裝置，其特征在于還具備：

被配置在上述基片臺的平坦部的計測部件；以及

在上述計測部件上的至少一部分形成了浸液區域的狀態下，檢測 來自上述計測部件的光的檢測系統。

7.按照權利要求1、3及4中任一項所述的曝光裝置，其特征在于 還具備：

收容虛設基片的虛設基片庫。

8.一種經由液體將曝光光照射到基片上，由此來曝光上述基片 的曝光裝置，其特征在于：

具有用于保持上述基片的凹部和被配置在上述凹部的周圍、與上 述凹部所保持的上述基片的表面大致同一個面的平坦部的基片臺；以 及

在上述基片臺上的凹部中配置物體，只要是上述物體表面與上述 平坦部成為大致同一個面的情況就在上述基片臺上形成浸液區域。

9.按照權利要求8所述的曝光裝置，其特征在于：

上述物體包含基片或虛設基片。

10.按照權利要求8所述的曝光裝置，其特征在于還具備：

在上述凹部中未配置上述物體的情況下，禁止在上述基片臺上形 成浸液區域的控制裝置。

11.按照權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于還具備：

為了形成上述浸液區域而供給液體的浸液機構，

上述控制裝置在上述凹部中未配置上述物體的情況下，中止利用 上述浸液機構的液體供給。

12.按照權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于：

上述控制裝置在上述凹部中未配置上述物體的情況下，控制上述 基片臺的移動以使得上述基片臺從被照射曝光光的區域離開。

13.一種器件制造方法，使用權利要求1、3、4及8中任一項所述 的曝光裝置。

14.一種經由液體將曝光光照射到可移動的基片臺所保持的基片 上，由此來曝光上述基片的曝光方法，其特征在于包括以下步驟：

檢測在上述基片臺上是否保持著上述基片或者虛設基片；以及

依照上述檢測結果來判斷是否在上述基片臺上形成浸液區域。

15.一種器件制造方法，使用權利要求14所述的曝光方法。