[發明專利]曝光裝置和圖像形成裝置

有效

• 申請號: 201110302458.9
• 申請日: 2011-10-08
• 公開（公告）號: CN102615996A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 岡崎祥也;片岡秀樹
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: B41J2/45
• 分類號: B41J2/45;G03G15/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

技術領域

本發明涉及曝光裝置和圖像形成裝置。

背景技術

專利文獻1公開了一種探測系統，該探測系統能夠針對抵靠要被測試的基板上的測試焊盤(檢查用電極)按壓探針的量來電氣地檢測測試焊盤的高度，并且控制按壓量以使其變為給定量，由此在不依靠高密度基板的測試焊盤的高度變化的情況下可靠地使探針與測試焊盤電接觸。

[專利文獻1]JP-A-2-130477

發明內容

本發明的目的是提供一種曝光裝置，該曝光裝置抑制由于施加于檢查用電極的按壓力而導致的待檢查的發光元件的光軸的偏離。

根據本發明的第一方面，提供一種曝光裝置，該曝光裝置包括：長基板；多個發光元件，它們沿所述基板的縱向設置在所述基板的一面上；多個檢查用電極，它們沿所述基板的縱向設置在所述基板的另一面上；以及多條電線，各條電線均電連接在所述多個發光元件中的一個發光元件與所述多個檢查用電極中的一個檢查用電極之間，所述多個檢查用電極中的所述一個檢查用電極不最靠近所述多個發光元件中的所述一個發光元件。

根據本發明的第二方面，提供了根據第一方面的曝光裝置，該曝光裝置還包括：殼體，其收納所述基板；以及多個固定部，它們沿所述基板的縱向設置以將所述基板與所述殼體固定，其中，連接在所述多個發光元件中的所述一個發光元件與所述多個檢查用電極中的所述一個檢查用電極之間的所述多條電線中的每一條電線均設置在所述多個固定部中的至少一個固定部上。

根據本發明的第三方面，提供了根據第一方面的曝光裝置，其中，所述發光元件的沿所述基板的縱向的長度比所述檢查用電極沿所述基板的縱向的長度長，并且所述多個檢查用電極中的每一個檢查用電極設置在所述發光元件沿所述基板的縱向的長度的范圍之內。

根據本發明的第四方面，提供了根據第一方面的曝光裝置，其中，所述檢查用電極被檢查探針按壓，該檢查探針向所述發光元件提供電流。

根據本發明的第五方面，提供了根據第一方面的曝光裝置，其中，所述多個發光元件在所述基板上沿所述基板的縱向按直線設置。

根據本發明的第六方面，提供了根據第一方面的曝光裝置，其中，所述多個發光元件在所述基板上沿所述基板的縱向上在一直線兩側交替地設置。

根據本發明的第七方面，提供了一種圖像形成裝置，該圖像形成裝置包括：根據第一至第六方面中任一方面的所述曝光裝置；圖像承載體，其被所述曝光裝置曝光并且在其上形成靜電潛像；顯影裝置，其利用色調劑對所述圖像承載體上形成的所述靜電潛像進行顯影；以及轉印裝置，其將被所述顯影裝置顯影的色調劑圖像轉印到被轉印體上。

根據本發明的第一方面和第三方面至第六方面，當從基板的橫向觀看基板時，與各發光元件連接至位于相對位置處的檢查用電極的情況相比，可以抑制由施加于檢查用電極的按壓力造成的待檢查的發光元件的光軸偏離。

根據本發明的第二方面，當從基板的橫向觀看基板時，與各發光元件連接至未跨固定裝置的檢查用電極的情況相比，可以進一步抑制由施加于檢查用電極的按壓力造成的待檢查的發光元件的光軸偏離，并且可以縮短發光元件和檢查用電極之間的布線距離。

根據本發明的第七方面，與不包括根據第一方面或第二方面的曝光裝置的情況相比，可以形成高精度圖像。

附圖說明

將基于附圖詳細描述本發明的示例性實施方式，其中：

圖1是示出了關于本發明的示例性實施方式的圖像形成裝置的構造的整體構造圖；

圖2是圖1中示出的曝光裝置的立體圖；

圖3是圖1中示出的曝光裝置的橫截面圖；

圖4是圖1中示出的曝光裝置的仰視圖；

圖5是當從圖2中所示的印刷線路板的橫向觀看該印刷電路板時的側面圖，并且是示出了檢查LED陣列時的狀態的說明圖；

圖6是示出了檢查LED陣列時的狀態的說明圖，其示出為圖5的比較示例；以及

圖7是與圖5類似的說明圖，其示出了圖5的印刷線路板的另一個狀態。

具體實施方式

下面將參照附圖描述與本發明有關的曝光裝置和圖像形成裝置的示例性實施方式。

(整體構造)

圖1示出了具有與本發明的示例性實施方式有關的曝光裝置的圖像形成裝置的構造的一個示例。

如圖1所示，圖像形成裝置10的裝置主體10A設置有中間轉印體帶14，該中間轉印體帶14充當要被轉印的環形帶狀體的一個示例，并且在多個輥12上拉伸并且通過電機(未示出)的驅動而沿箭頭A的方向被傳送。