[發明專利]一種帶側向導流的淬冷等離子體射流反應器及其制備方法

無效

• 申請號: 201110300764.9
• 申請日: 2011-09-29
• 公開（公告）號: CN102416308A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 王海興;劉小龍;孫維平
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08;B82Y40/00
• 代理公司: 北京永創新實專利事務所 11121
• 代理人: 官漢增

1.一種帶側向導流的淬冷等離子體射流反應器，其特征在于：包括等離子體發生器、原料噴射環、淬冷室、收集室、傳送帶、淬冷氣體輸送管和側向導流通道；等離子體發生器嵌在原料噴射環的凹口內，原料噴射環通過螺栓與淬冷室連接，淬冷室底部設有淬冷氣體輸送管，，等離子體發生器與淬冷氣體輸送管出口反向共軸布置，原材料通過原料噴射環均勻地向淬冷室中噴入等離子體射流，在淬冷室中形成滯止面；所述的淬冷室的一側的外壁面上連接有側向導流通道，側向導流通道的一端與淬冷室內部連通，另一端連接冷風，側向導流通道與滯止面保持在同一高度，該側向導流通道為方形直通道形狀，側向導流通道嵌入在淬冷室內，其通道水平垂直于淬冷室的中心軸線，寬度與淬冷室的橫向半徑相同，長度方向上使淬冷室的內部與冷風連通，高度為3～5cm，側向導流通道的出口所在直線為淬冷室橫向直徑方向，側向導流通道的通道兩壁與淬冷室的外壁分別相切，在與側向導流通道相對的淬冷室的另一側的底部焊接有收集室，該收集室位于傳送帶上，通過傳送帶將收集室中收集的納米顆粒輸送到指定的地點。

2.根據權利要求1所述的一種帶側向導流的淬冷等離子體射流反應器，其特征在于：所述的收集室連接有冷卻管路，且收集室與外圍之間留有縫隙，使形成等離子體射流的工作氣體排出腔室。

3.根據權利要求1所述的一種帶側向導流的淬冷等離子體射流反應器，其特征在于：所述的傳送帶兩側設置有擋板，其高度使得納米粉落在傳送帶上，而不會被吹出，避免制備的納米粉流到收集室外面。

4.根據權利要求1所述的一種帶側向導流的淬冷等離子體射流反應器，其特征在于：所述的冷風風速為10～30cm/s。

5.根據權利要求1所述的一種帶側向導流的淬冷等離子體射流反應器的制備方法，其特征在于：具體包括以下幾個步驟：

第一步：將等離子體發生器供氣管路上的流量計打開，然后將等離子體發生器供氣瓶閥門打開，調節流量控制閥，使等離子體發生器的工作氣體達到等離子體發生器所需供氣量；

第二步：依次將與收集室相連的冷卻管路上的回水閥、供水閥打開，然后打開供水泵使其達到正常的供水量；

第三步：打開淬冷氣體輸送管上的淬冷氣體閥和側向導流通道的氣體閥，使下方淬冷氣體和側向導流氣體正常供給；

第四步：打開等離子體發生器的電源開關，啟動高頻供電，使等離子體發生器實現引弧后，切斷高頻改為直流供電；打開傳送帶的電源開關，啟動傳送帶；

第五步：待淬冷室內氣體流動穩定后，打開與原料噴射環相連的供粉閥，開始納米粉體的制備。