[發(fā)明專利]一種中高溫太陽能選擇性吸收涂層無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110300497.5 | 申請日： | 2011-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN103029365A | 公開（公告）日： | 2013-04-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 鄧淞文;李剛;孫龍 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學院大連化學物理研究所 |
| 主分類號： | B32B9/04 | 分類號： | B32B9/04;B32B15/04;B32B18/00;F24J2/48;C23C14/08;C23C14/14;C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人： | 馬馳 |
| 地址： | 116023 *** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 高溫 太陽能 選擇性 吸收 涂層 | ||
1.一種中高溫太陽能選擇性吸收涂層，沉積在基底上，從基底表面向上依次由合金紅外高反射層、抗擴散層、吸收層和減反射層組成，其特征在于：吸收層為金屬陶瓷吸收層，所述金屬陶瓷吸收層可表示為NiCrAl-ZrO2，金屬陶瓷吸收層由NiCrAl合金納米顆粒和ZrO2組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的合金紅外高反射層為NiCrAl合金薄膜層，其重量成分組成為Ni：70％-90％，Cr：5％-15％，Al：5％-15％，其厚度范圍為200-600nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的抗擴散層為Al2O3薄膜層，其厚度范圍為：20-60nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的金屬陶瓷吸收層為單層金屬陶瓷，金屬納米顆粒鑲嵌于ZrO2陶瓷之中，其NiCrAl金屬納米顆粒的體積分數(shù)為15％-50％，NiCrAl靶材Cr質(zhì)量含量為5％-20％，Al質(zhì)量含量為5％-20％，余量Ni；厚度為20-60nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的減反射層為Al2O3薄膜層，厚度為50-100nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于：所述金屬陶瓷吸收層采用的金屬制備靶材為NiCrAl合金靶材，NiCrAl靶材Cr質(zhì)量含量為5％-20％，Al質(zhì)量含量為5％-20％，余量Ni。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于：
涂層所使用的基底為鎳基高溫合金材料或者不銹鋼材料。
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