[發明專利]離子注入裝置

無效

• 申請號: 201110300414.2
• 申請日: 2011-09-29
• 公開（公告）號: CN102683147A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 內藤勝男;佐佐木彰
• 申請（專利權）人: 日新離子機器株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/02
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 李雪春;武玉琴

1.一種離子注入裝置，包括：

離子源，通過離子束引出口朝向與重力方向交差的方向引出離子束；

輸送盤，裝載有基板；

掩模，安裝在所述輸送盤上，且至少具有一個開口部；以及

驅動機構，通過使所述輸送盤在與所述離子束交差的方向上移動，使所述離子束經過所述掩模上形成的開口部，對所述基板的規定區域進行照射，所述離子注入裝置的特征在于，

還包括防塵板，在沿重力方向觀察所述離子束引出口時，所述防塵板覆蓋所述離子束引出口的下方，并且不妨礙所述離子束照射所述基板。

2.根據權利要求1所述的離子注入裝置，其特征在于，所述掩模上形成的所述開口部與從所述離子源引出的所述離子束的引出方向平行。

3.根據權利要求1或2所述的離子注入裝置，其特征在于，在所述防塵板上設置有直立部，所述直立部從所述防塵板的表面向上方突出。

4.根據權利要求3所述的離子注入裝置，其特征在于，所述直立部設置在所述防塵板的沿重力方向與所述離子源相對的相對面的整個周向上。

5.根據權利要求3所述的離子注入裝置，其特征在于，在從重力方向觀察時，所述直立部設置在所述防塵板的沿所述輸送盤輸送方向與所述基板相對配置的端部上。