[發明專利]一種等離子體預清洗裝置有效
| 申請號： | 201110299536.4 | 申請日： | 2011-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN103014745A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發明（設計）人： | 呂鈾 | 申請（專利權）人： | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號： | C23G5/04 | 分類號： | C23G5/04 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 張天舒;陳源 |
| 地址： | 100176 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 清洗 裝置 | ||
1.一種等離子體預清洗裝置，包括線圈、法拉第屏蔽件、介質桶、設置在所述介質桶頂端的頂蓋以及與所述介質桶底端相連的腔體，所述法拉第屏蔽件套在所述介質桶的外側，所述線圈纏繞在所述法拉第屏蔽件的外側，其特征在于，所述法拉第屏蔽件包括沿所述介質桶周緣方向排列的至少兩個相互不接觸的法拉第屏蔽單元。
2.根據權利要求1所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，在所述法拉第屏蔽單元上設有沿所述法拉第屏蔽件軸向方向的槽部。
3.根據權利要求2所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，所述槽部在所述法拉第屏蔽件的周緣方向上的寬度為3～10mm。
4.根據權利要求1所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，所述法拉第屏蔽單元在所述法拉第屏蔽件的徑向方向的厚度為3～10mm。
5.根據權利要求1所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，在所述介質桶周緣方向上，相鄰兩個所述法拉第屏蔽單元之間的距離為3～10mm。
6.根據權利要求1所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，所述法拉第屏蔽單元采用導電材料制成。
7.根據權利要求1所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，所述法拉第屏蔽件與直流電源連接。
8.根據權利要求7所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，所述法拉第屏蔽件與直流電源之間連接有低通濾波器。
9.根據權利要求1所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，所述介質桶頂端與所述頂蓋之間設置有轉接法蘭，在所述轉接法蘭內部設有用于冷卻所述介質桶的冷卻通道，所述冷卻通道與冷卻介質源連通。
10.根據權利要求1-9任意一項所述的等離子體預清洗裝置，其特征在于，所述介質桶采用陶瓷或石英制成。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司，未經北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110299536.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：輸電鐵塔組件的調整裝置
- 下一篇：鋼鐵表面制備鋁鉬共滲合金涂層的方法
