[發(fā)明專利]磁浮重力補(bǔ)償器及光刻裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110299070.8
• 申請(qǐng)日: 2011-09-29
• 公開（公告）號(hào): CN103034065A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 夏海;陳慶生;徐濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;H02N15/00
• 代理公司: 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.?一種磁浮重力補(bǔ)償器，包括定子和動(dòng)子，其特征在于，所述動(dòng)子通過磁力懸浮于所述定子之上，所述定子包括第一磁環(huán)、線圈環(huán)及第四磁環(huán)，所述動(dòng)子包括第二磁環(huán)及第三磁環(huán)，所述第一磁環(huán)、第二磁環(huán)、線圈環(huán)、第三磁環(huán)、第四磁環(huán)依次由內(nèi)向外同心設(shè)置。

2.如權(quán)利要求1所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述第一磁環(huán)包括磁極方向相反的上半磁環(huán)和下半磁環(huán)，所述第四磁環(huán)包括磁極方向相反的上半磁環(huán)和下半磁環(huán)。

3.如權(quán)利要求1所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述第一磁環(huán)的上半磁環(huán)和第四磁環(huán)的上半磁環(huán)的磁極方向相同。

4.如權(quán)利要求2或3所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述第二磁環(huán)的磁極方向與第一磁環(huán)的下半磁環(huán)磁極方向相反，所述第三磁環(huán)的磁極方向與第四磁環(huán)的下半磁環(huán)磁極方向相反。

5.如權(quán)利要求1所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述第一磁環(huán)、第四磁環(huán)及線圈環(huán)分別通過一支架與所述定子固定，所述第二磁環(huán)、第三磁環(huán)分別通過一支架與所述動(dòng)子固定。

6.如權(quán)利要求1所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述第一、第四磁環(huán)高度相同，所述線圈環(huán)的高度小于第二磁環(huán)及第三磁環(huán)的高度。

7.如權(quán)利要求5所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述線圈環(huán)及線圈支架均通過一冷卻單元與所述定子固定。

8.如權(quán)利要求7所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述冷卻單元為由高導(dǎo)熱率材料制成的冷卻板，所述冷卻板上設(shè)置有若干水冷通路。

9.如權(quán)利要求5所述的磁浮重力補(bǔ)償器，其特征是，所述支架由不導(dǎo)磁材料制成。

10.一種光刻裝置，其特征在于，包括：

????一照明單元，用于提供曝光光束；

一掩模臺(tái)，用于支撐一掩模；

一工件臺(tái)，用于支撐一基底并提供六自由度運(yùn)動(dòng)；

一投影物鏡，用于將掩模上圖形按一定比例投射至基底；

所述工件臺(tái)包括如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的磁浮重力補(bǔ)償器。