[發明專利]一種金屬表面的陶瓷膜層及其制備方法無效
| 申請號： | 201110297310.0 | 申請日： | 2011-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN103014706A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發明（設計）人： | 柯全 | 申請（專利權）人： | 柯全 |
| 主分類號： | C23C28/04 | 分類號： | C23C28/04;C25D11/04;C23C24/10 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人： | 胡美強 |
| 地址： | 518023 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 金屬表面 陶瓷膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種金屬表面的陶瓷膜層的制備方法，其特征在于包含下列步驟：將微弧氧化工藝得到的陶瓷膜層和陶瓷粉末進行預置式激光熔覆或同步式激光熔覆，即可。
2.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述的預置式激光熔覆包含下列步驟：在微弧氧化工藝得到的陶瓷膜層表面涂覆陶瓷粉末，然后通過激光熔覆的方式，使陶瓷粉末同所述的微弧氧化工藝得到的陶瓷膜層進行冶金級結合，即可。
3.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述的同步式激光熔覆包含下列步驟：將陶瓷粉末直接送入激光束中，在微弧氧化工藝得到的陶瓷膜層表面進行激光熔覆，使陶瓷粉末同所述的微弧氧化工藝得到的陶瓷膜層進行冶金級結合，即可。
4.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述的微弧氧化工藝得到的陶瓷膜層為將鋁合金、鎂合金或鈦合金表面通過微弧氧化工藝得到的陶瓷膜層。
5.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述的陶瓷粉末為氧化物粉末、碳化物粉末和/或氮化物粉末。
6.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于：所述的氧化物粉末為ZrO2、Al2O3、SiO2、TiO2、BeO、MgO和ZnO粉末中的一種或多種。
7.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于：所述的碳化物粉末為WC、TiC、SiC和B4C粉末中的一種或多種。
8.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于：所述的氮化物粉末為TiN、AlN、BN和Si3N4粉末中的一種或多種。
9.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述的激光熔覆的溫度范圍為800～2200℃。
10.如權利要求1～9任一項所述的金屬表面的陶瓷膜層的制備方法制得的陶瓷膜層。
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