[發(fā)明專利]液晶顯示設(shè)備和制造該液晶顯示設(shè)備的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110296490.0 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102566171A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳錦美;李漢錫;申熙善 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333;G02F1/133;H01L29/786;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;張旭東 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示 設(shè)備 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及液晶顯示(LCD)設(shè)備,更具體地,涉及LCD設(shè)備及其制造方法,該LCD設(shè)備及其制造方法增加了具有多柵極結(jié)構(gòu)的薄膜晶體管的溝道寬長(zhǎng)比(W/L)。
背景技術(shù)
隨著諸如移動(dòng)通信終端和筆記本電腦之類的便攜式電子設(shè)備的發(fā)展,對(duì)平板顯示(FPD)設(shè)備的需要也在增加。
FPD設(shè)備、LCD設(shè)備、等離子體顯示板(PDP)、場(chǎng)發(fā)射顯示(FED)設(shè)備和發(fā)光二極管(LED)顯示設(shè)備都在進(jìn)行持續(xù)的研究和開發(fā)。在FPD設(shè)備中,LCD設(shè)備的應(yīng)用正在擴(kuò)展,這是因?yàn)長(zhǎng)CD設(shè)備容易制造、容易驅(qū)動(dòng)、具有高的圖像質(zhì)量和大的屏幕尺寸。
觸摸屏代替了諸如鼠標(biāo)或鍵盤的輸入設(shè)備,并且允許用戶通過手指、筆或手寫筆直接輸入信息,這樣的觸摸屏已被應(yīng)用于平板設(shè)備。
觸摸屏被應(yīng)用于各種領(lǐng)域,例如,用于導(dǎo)航的移動(dòng)終端、工業(yè)終端、筆記本電腦、金融自動(dòng)化設(shè)備、游戲機(jī)、諸如便攜式手機(jī)的便攜式終端、MPEG音頻層3(MP3)播放器、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、便攜式多媒體播放器(PMP)、便攜式游戲站(PSP)、便攜式游戲機(jī)和數(shù)字多媒體廣播(DMB)接收機(jī)、以及諸如冰箱、微波爐和洗衣機(jī)之類的電器。由于所有用戶都可以容易地操作觸摸屏,因此觸摸屏的應(yīng)用正在擴(kuò)展。
具有內(nèi)置觸摸屏的LCD設(shè)備近來被開發(fā)以減小電子設(shè)備的尺寸。具體地,開發(fā)了一種使用有源結(jié)構(gòu)中的現(xiàn)有元件(諸如形成在下基板中的公共電極)作為觸摸感應(yīng)電極的內(nèi)嵌式(in-cell?type)LCD設(shè)備。
圖1是示出具有內(nèi)置觸摸屏的現(xiàn)有技術(shù)LCD設(shè)備及其驅(qū)動(dòng)方法的視圖。參考圖1,具有內(nèi)置觸摸屏的現(xiàn)有技術(shù)LCD設(shè)備10包括其間耦合有液晶層(未示出)的下基板50和上基板60。
作為內(nèi)置觸摸屏操作的例子,像素陣列40還可以用作觸摸屏TS傳感器。可以對(duì)像素陣列40施加小電壓以創(chuàng)建均勻的靜電場(chǎng)。當(dāng)諸如人的手指或其它物體的導(dǎo)體觸摸未涂覆的前表面時(shí),形成電容器Ctc。連接到觸摸屏TS傳感器的控制器可以根據(jù)從觸摸屏TS傳感器的四個(gè)角測(cè)量的電容的變化來間接地確定觸摸的位置。
上基板60包括限定像素區(qū)以便對(duì)應(yīng)于多個(gè)像素中的每個(gè)像素的黑矩陣62,形成在黑矩陣62限定的像素中的紅色濾光器64R,形成在黑矩陣62限定的像素中的綠色濾光器64G,形成在黑矩陣62限定的像素中的藍(lán)色濾光器64B,以及形成為覆蓋(cover)黑矩陣62和彩色濾光器64R、64G和64B以平坦化上基板60的外涂層66。
下基板50包括像素陣列40,像素陣列40包括多個(gè)像素以驅(qū)動(dòng)液晶層并且用于檢測(cè)用戶的手指或筆的觸摸。由彼此相交的數(shù)據(jù)線和選通線限定每個(gè)像素。薄膜晶體管(TFT)形成在數(shù)據(jù)線和選通線相交的區(qū)域中。此外,每個(gè)像素包括公共電極和像素電極。
圖2是示出具有內(nèi)置觸摸屏的現(xiàn)有技術(shù)LCD設(shè)備的下基板50的結(jié)構(gòu)的剖面圖。在圖2中,示出了具有邊緣場(chǎng)開關(guān)(FFS)模式的下基板結(jié)構(gòu)。以下描述FFS模式操作。
參考圖2,下基板50的每個(gè)像素包括:遮光層71,形成在玻璃基板上;緩沖層51,形成在遮光層71上;有源層72(即,半導(dǎo)體層),形成在緩沖層51上;柵極絕緣層52,形成在有源層72上;柵極電極73,由金屬材料形成,并且形成在柵極絕緣層52上以與有源層72的一部分交疊(overlap);層間介電質(zhì)(ILD)53,形成在柵極電極73上以絕緣柵極電極73和數(shù)據(jù)電極74(源極/漏極);以及數(shù)據(jù)電極74,電連接到有源層72。
蝕刻?hào)艠O絕緣層52和ILD?53,并且因此形成第一接觸孔以暴露有源層72的部分區(qū)域。通過在接觸孔中埋入金屬材料而形成數(shù)據(jù)電極74。此外,數(shù)據(jù)電極74電連接到像素電極77(像素ITO)。
下基板50的每個(gè)像素包括順序地形成以覆蓋柵極電極73和數(shù)據(jù)電極74的第一鈍化層54(PAS0)和第二鈍化層55(PAS1)。下基板50的每個(gè)像素還包括:公共電極75,形成在第二鈍化層55上;以及導(dǎo)電線76(第三金屬),形成在公共電極75的一側(cè)上,并且電連接到相鄰像素的公共電極。下基板50的每個(gè)像素還包括:第三鈍化層56(PAS2),其形成為覆蓋公共電極75和導(dǎo)電線76;以及像素電極77,形成為電連接到數(shù)據(jù)電極74。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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