[發(fā)明專利]用于合成射流冷卻的方法和系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110296352.2 | 申請日： | 2011-09-23 |
| 公開（公告）號： | CN102421275A | 公開（公告）日： | 2012-04-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | J·J·斯特里爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 通用電氣航空系統(tǒng)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號： | H05K7/20 | 分類號： | H05K7/20 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 嚴志軍;楊炯 |
| 地址： | 美國密*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 合成 射流 冷卻 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，包括多個合成射流組件(102)，所述多個合成射流組件(102)配置成鄰接于產(chǎn)生過剩熱的構(gòu)件(104)而定位，所述多個合成射流組件中的各個合成射流組件包括驅(qū)動器(116)，所述驅(qū)動器(116)配置成在變化的頻率激勵所述多個合成射流組件中的相應(yīng)的一個。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述多個合成射流組件(102)中的各個合成射流組件包括至少一個合成射流噴射器(106)，所述合成射流噴射器(106)包括壓電致動器(118)，所述致動器配置成進行振動，從而產(chǎn)生流體的流。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述驅(qū)動器(116)配置成在隨機變化的頻率激勵所述多個合成射流組件(102)中的相應(yīng)的一個。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述驅(qū)動器(116)配置成在偽隨機變化的頻率激勵所述多個合成射流組件(102)中的相應(yīng)的一個。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述驅(qū)動器(116)配置成在線性變化的頻率激勵所述多個合成射流組件(102)中的相應(yīng)的一個。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述驅(qū)動器(116)配置成在變化于第一界限和第二界限之間的頻率激勵所述多個合成射流組件(102)中的相應(yīng)的一個，所述第一界限大于所述第二界限。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述多個合成射流組件(102)中的各個合成射流組件包括至少一個合成射流噴射器(106)，所述合成射流噴射器(106)包括射流端口(108)，所述射流端口以垂直、平行以及傾斜中的至少一種方式與所述構(gòu)件的表面(110)對齊。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述構(gòu)件(104)包括與所述構(gòu)件的所述表面(110)一體地形成的合成射流組件殼體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述合成射流組件(102)包括被封入單個殼體中的多個合成射流噴射器(106)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成射流冷卻系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述合成射流組件(102)包括能夠聯(lián)接至所述構(gòu)件(104)的所述表面(110)的單個殼體。
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