[發明專利]一種高性能氣體傳感器無效
| 申請號: | 201110295012.8 | 申請日: | 2011-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN102608170A | 公開(公告)日: | 2012-07-25 |
| 發明(設計)人: | 王仲祺;許志;徐軍 | 申請(專利權)人: | 北京中科微納物聯網技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/12 | 分類號: | G01N27/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100085 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 性能 氣體 傳感器 | ||
1.一種高性能氣體傳感器,其特征在于包括以下步驟:
1)采用一維納米材料制作為氣體傳感器的敏感材料;
2)摻雜的納米材料作為氣敏材料,提高傳感器性能;
3)采用旁式結構或平面結構制備氣體傳感器;
2.如權利要求1所述一維納米材料,其特征在于步驟1)中,一維納米材料采用常溫常壓等低成本、工藝簡單的方法制備的。
3.如權利要求1所述摻雜的納米材料作為氣敏材料,其特征在于步驟1)中,摻雜的納米材料作為氣敏材料采用常溫常壓等低成本、工藝簡單的方法制備的。
4.如權利要求1所述采用旁式結構制備氣體傳感器,其特征在于步驟1)中,旁式結構是指氧化鋁等絕緣陶瓷管作為傳感器基底,結構簡單,成本低。
5.如權利要求1所述采用平面結構制備氣體傳感器,其特征在于步驟1)中,平面結構是指采用微電子技術或微機電技術(MEMS技術)制備的低功耗的傳感器結構,包括選擇硅基地、SOI基底等。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京中科微納物聯網技術股份有限公司,未經北京中科微納物聯網技術股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110295012.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





