[發明專利]AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器及其制備方法有效
| 申請號: | 201110294679.6 | 申請日: | 2011-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN102361046A | 公開(公告)日: | 2012-02-22 |
| 發明(設計)人: | 張世林;謝生;毛陸虹;郭維廉;卲會民 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | H01L31/101 | 分類號: | H01L31/101;H01L31/108;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/18 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人: | 曹玉平 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | algan msm 結構 日盲型 紫外 探測器 及其 制備 方法 | ||
1.一種AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器,包括襯底(10)和設置在襯底(10)上面 的緩沖層(11),其特征在于,所述緩沖層(11)的上面設置有吸收層(12),該吸收層(12) 為非故意摻雜的300nm厚的n-Al0.6Ga0.4N層,載流子濃度約為8×1015cm-3,吸收層(12)的上 面設置有SiO2層(13)和肖特基接觸電極(14)。
2.根據權利要求1的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器,其特征在于,所述襯底(10) 為藍寶石材料。
3.根據權利要求1的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器,其特征在于,所述肖特基接 觸電極(14)為Ni/Pt/Au金屬層,為30nm/20nm/80nm,為肖特基接觸叉指電極結構,即交 叉手指狀,指長996μm,指寬為4μm,指間距為4μm,面積1mm×1mm。
4.根據權利要求1的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器,其特征在于,該探測器的響 應范圍為200~272nm。
5.權利要求1的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器的制備方法,包括如下步驟:
①采用金屬有機化學氣相沉積方法在藍寶石襯底(10)上沉積一層AlN緩沖層(11);
②在步驟①的緩沖層(11)上面,采用金屬有機化學氣相沉積方法生長一層非故意摻雜 的非故意摻雜的300nm厚的n-Al0.6Ga0.4N吸收層(12),載流子濃度約為8×1015cm-3;
③步驟②的吸收層(12)生長完成后,先后用丙酮、乙醇、去離子水清洗材料;
④在吸收層(12)上面沉積SiO2層(13),用等離子體刻蝕工藝刻蝕SiO2層,刻蝕出叉 指電極圖形,刻蝕深度150nm。
⑤在刻蝕出的圖形上蒸發一層Ni/Pt/Au金屬層做肖特基接觸電極(14),采用標準的剝 離工藝剝離出叉指電極金屬條;
⑥將做好的肖特基接觸金屬電極在400℃下退火3min。
⑦然后進行電鍍壓焊點、劃片、引線鍵合,最后封裝在管殼上制成紫外探測器器件。
6.根據權利要求5的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器的制備方法,所述步驟①的AlN 緩沖層(11)的厚度為200nm。
7.根據權利要求5的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器的制備方法,所述步驟②的吸 收層(12)生長過程中用三甲基鎵、三甲基鋁和氨氣分別作為Ga、Al和N源,載氣為高純氫 氣。
8.根據權利要求5的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器的制備方法,所述步驟④的SiO2層(13)的厚度為150nm。
9.根據權利要求5的AlGaN基MSM結構日盲型紫外探測器的制備方法,所述步驟⑤的金 屬層Ni/Pt/Au為30nm/20nm/80nm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





