[發明專利]光學膜及其制備方法、起偏器和液晶顯示裝置無效
| 申請號: | 201110294631.5 | 申請日: | 2011-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN102416734A | 公開(公告)日: | 2012-04-18 |
| 發明(設計)人: | 中山元;筱田克己 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | B32B23/08 | 分類號: | B32B23/08;B32B23/20;B32B27/28;C08J5/18;G02B1/04;G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 于輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 及其 制備 方法 起偏器 液晶 顯示裝置 | ||
1.光學膜,其具有:
芯層,其包含具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸樹脂,和
外層,其包含乙酸纖維素酯,位于所述芯層的至少一側上并具有大于3μm-20μm的厚度。
2.根據權利要求1所述的光學膜,所述光學膜具有三層,其中在所述芯層的兩側上各形成外層。
3.根據權利要求1所述的光學膜,其中所述芯層的厚度為10-100μm。
4.根據權利要求1所述的光學膜,其中所述外層的總厚度占所述膜的總厚度的比例為2-40%。
5.根據權利要求1所述的光學膜,其具有-3.0×10-12Pa-1至3.0×10-12Pa-1的光彈性系數。
6.根據權利要求1-5中任一項所述的光學膜,其中所述芯層中的殘余溶劑量為至少0.004質量%。
7.根據權利要求1-5中任一項所述的光學膜,其中所述內酯環結構由下式(1)表示:
其中R1、R2和R3彼此獨立地是氫原子或具有1-20個碳原子的有機殘基。
8.根據權利要求1-5中任一項所述的光學膜,其中在所述具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸樹脂結構中,由式(1)表示的內酯環結構的含量為5-90重量%。
9.根據權利要求1-5中任一項所述的光學膜,其中所述丙烯酸樹脂的重均分子量為至少80000。
10.根據權利要求1-5中任一項所述的光學膜,其中所述具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸樹脂的玻璃化轉變溫度不低于115℃。
11.根據權利要求1-5中任一項所述的光學膜,其中所述纖維素酰化物樹脂滿足以下條件:
2.5≤TA-總≤3.0
2.4≤TA2≤3.0
0.0≤TA3≤0.1
其中TA-總表示酰基的總取代度,TA2表示具有2個碳原子的酰基的取代度,并且TA3表示具有3-7個碳原子的酰基的取代度。
12.制備光學膜的方法,其包括:
根據共流延方法,從流延基材側按(A)-(B)的順序將涂料(A)和涂料(B)同時流延在所述流延基材上,涂料(A)包含纖維素酰化物和有機溶劑,涂料(B)包含具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸樹脂和有機溶劑,和
去除所述有機溶劑,
其中控制涂料(A)的流延厚度,使得涂料(A)的干厚度可以是大于3μm-20μm。
13.根據權利要求12所述的制備光學膜的方法,其中根據共流延方法,從所述流延基材側按(A)-(B)-(A)的順序,將涂料(A)和涂料(B)同時流延在流延基材上。
14.根據權利要求12或13所述的制備光學膜的方法,其中控制涂料(A)的復數粘度ηA和涂料(B)的復數粘度ηB,使其滿足下式(I)的關系:
式(I)ηA≤ηB。
15.根據權利要求12或13所述的制備光學膜的方法,其中涂料(A)和涂料(B)在25℃的復數粘度均為10-80Pa·s。
16.根據權利要求12或13所述的制備光學膜的方法,其中涂料(A)中的固體濃度為15-25質量%。
17.光學膜,其根據權利要求12-16中任一項所述的方法制備。
18.起偏器,其具有偏振元件和根據權利要求1-11中任一項所述的光學膜。
19.液晶顯示裝置,其具有根據權利要求1-11中任一項所述的光學膜。
20.根據權利要求19所述的液晶顯示裝置,其是IPS-模式的裝置。
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