[發明專利]一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201110294472.9 | 申請日: | 2011-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN102306666A | 公開(公告)日: | 2012-01-04 |
| 發明(設計)人: | 彭壽;曹欣;王蕓;任志艷;向光 | 申請(專利權)人: | 中國建材國際工程集團有限公司;蚌埠玻璃工業設計研究院 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/04;H01L21/203;H01L31/18 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113 | 代理人: | 倪波 |
| 地址: | 200063 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 梯度 能帶 銅銦鎵硒 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,包括基板,所述基板上依次有背電極層、光吸收層、過渡層、本征氧化鋅層及透明導電膜層,其特征在于,所述背電極層為金屬Mo層或者金屬Mo與金屬Cu的合金層,所述光吸收層具有梯度能帶分布結構,所述過渡層為ZnS薄膜,所述透明導電膜層為氧化鋅摻鋁ZAO薄膜。
2.根據權利要求1所述一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征在于,各膜層厚度范圍分別為:背電極層200~1500nm,光吸收層1000~3000nm,過渡層30~500nm,本征氧化鋅層30~500nm,透明導電膜層200~1000nm。
3.一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于,包含以下制備步驟:
(1)采用溶劑超聲或者離子源清洗玻璃基片,清洗時間5~30min,將基片放入烘箱中烘干,烘干溫度50~150℃;
(2)將步驟(1)中制備的玻璃基片置于真空室中,將真空室抽到本底真空度后,通入工藝氣體,采用磁控濺射法使用Mo靶制備Mo背電極層,或者使用Mo靶及Cu靶共濺射制備鉬銅合金薄膜作為背電極層;
(3)將步驟(2)中制備的帶有背電極層的玻璃基板旋轉至真空室內另一靶位采用CuInxGa(1-x)Se四元靶材,采用磁控濺射法制備CIGS光吸收層,在光吸收層的濺射過程中采用GaCu靶或Ga靶間歇式濺射,并且間歇式濺射時間呈梯度分布,在整個區域內形成Ga濃度的梯度分布,從而形成整個光吸收層中的梯度能級分布,濺射過程中附加襯底溫度100~500℃;
(4)將濺射完畢后的薄膜在原位上繼續加熱至退火溫度150~550℃,保溫10~100min,然后在10~60min內將其冷卻至室溫;
(5)將上述制備有CIGS光吸收層的樣品旋轉至另一靶位,使用ZnS靶材,采用磁控濺射法制備ZnS過渡層;
(6)將樣品循序旋轉到另兩個靶位,使用ZnO靶材和ZAO靶材,采用磁控濺射法制備本征氧化鋅和透明導電膜層。
4.根據權利要求3所述一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述溶劑為自來水、去離子水、丙酮、無水酒精中的一種或幾種組合。
5.根據權利要求3所述一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(2)中所述工藝氣體為氬氣,本底真空度為1×10-5~1×10-3Pa,濺射功率密度為0.1~15W·cm-2,靶極距為30~120cm,工作氣壓為0.01~3Pa。
6.根據權利要求3所述一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述的制備光吸收層CIGS中所含元素成分范圍為0.1<Ga/In+Ga<0.4,0.5<Cu/In+Ga<1。
7.根據權利要求3所述一種具有梯度能帶的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述CuGa靶或Ga靶間歇式濺射的間歇時間為10~1200s,CuGa靶或Ga靶濺射時間呈梯度分布,并持續減少,初始濺射時間為10~1200s,經過間歇時間后,濺射時間逐漸減少,減少時間量為10~600s。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國建材國際工程集團有限公司;蚌埠玻璃工業設計研究院,未經中國建材國際工程集團有限公司;蚌埠玻璃工業設計研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110294472.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種定子沖片疊裝工作臺
- 下一篇:帶有半導體三極管的組裝散熱片
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





