[發(fā)明專利]光學(xué)模塊及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110290686.9 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102411169A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石井理 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本電氣株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02B6/12 | 分類號(hào): | G02B6/12;G02B6/13;G02B6/42 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 李曉冬 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 模塊 及其 制造 方法 | ||
1.一種光學(xué)模塊,包括:
襯底,包括干涉計(jì);以及
托架,其連接到結(jié)合區(qū)域,所述結(jié)合區(qū)域是所述襯底的底部表面的部分區(qū)域,其中
與所述襯底上的由所述干涉計(jì)所占據(jù)的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的底部表面區(qū)域不被包括在所述結(jié)合區(qū)域中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊,其中
所述襯底包括不少于兩個(gè)干涉計(jì),所述不少于兩個(gè)干涉計(jì)包括第一干涉計(jì)和第二干涉計(jì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊,其中
所述結(jié)合區(qū)域與所述底部表面區(qū)域隔開(kāi)不小于1mm,所述底部表面區(qū)域與所述襯底上的由構(gòu)成所述干涉計(jì)的波導(dǎo)所占據(jù)的區(qū)域相對(duì)應(yīng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)模塊,其中,所述結(jié)合區(qū)域包括第一橫穿區(qū)域,所述第一橫穿區(qū)域定位成鄰接于:
第一干涉計(jì)區(qū)域,其為所述底部表面的與所述襯底上的由所述第一干涉計(jì)所占據(jù)的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域;
第二干涉計(jì)區(qū)域,其為所述底部表面的與所述襯底上的由所述第二干涉計(jì)所占據(jù)的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的另一區(qū)域;以及
第三干涉計(jì)區(qū)域,其包括所述底部表面的在所述第一干涉計(jì)區(qū)域與所述第二干涉計(jì)區(qū)域之間的區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)模塊,其中,所述結(jié)合區(qū)域包括第二橫穿區(qū)域,所述第二橫穿區(qū)域定位在:
經(jīng)過(guò)所述第三干涉計(jì)區(qū)域而與所述第一橫穿區(qū)域相對(duì)的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)模塊,其中,所述結(jié)合區(qū)域包括在以下區(qū)域之間的區(qū)域:
第一干涉計(jì)區(qū)域,其為所述底部表面的與所述襯底上的由所述第一光學(xué)干涉計(jì)所占據(jù)的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域;以及
第二干涉計(jì)區(qū)域,其為所述底部表面的與所述襯底上的由所述第二光學(xué)干涉計(jì)所占據(jù)的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的另一區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊,其中
所述干涉計(jì)是混合干涉計(jì)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊,其中
第一突起部分位于所述托架的表面處,并且
所述結(jié)合區(qū)域連接到所述第一突起部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊,其中
第二突起部分位于所述襯底的底部表面處,并且
所述結(jié)合區(qū)域是所述第二突起部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊,其中
使用焊料將所述襯底連接到所述托架。
11.一種制造光學(xué)模塊的方法,包括以下步驟:
形成結(jié)合區(qū)域;以及
將安裝有襯底的托架連接到所述結(jié)合區(qū)域,所述結(jié)合區(qū)域是所述襯底的底部表面的具有干涉計(jì)的部分區(qū)域,并且不包括所述底部表面的與所述襯底上的由所述干涉計(jì)所占據(jù)的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的其他部分區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)模塊的制造方法,其中
通過(guò)對(duì)固定在所述襯底的底部表面中的金屬膜進(jìn)行圖案化來(lái)形成所述結(jié)合區(qū)域,并且
所述托架通過(guò)焊料結(jié)合到所述結(jié)合區(qū)域,使得具有所述金屬膜的部分用作所述結(jié)合區(qū)域。
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