[發明專利]化學反應合成石墨烯薄膜的方法有效
| 申請號： | 201110289050.2 | 申請日： | 2011-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN103011137A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發明（設計）人： | 徐明生;陳紅征;施敏敏;吳剛;汪茫 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | C01B31/04 | 分類號： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100 | 代理人： | 劉曉春 |
| 地址： | 310027*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學反應 合成 石墨 薄膜 方法 | ||
1.一種化學反應合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于包括如下步驟：
1)以含碳元素的碳源材料和另一化學反應物質發生化學反應而產生活性碳原子或含碳活性基團；
2)所述的活性碳原子或含碳活性基團沉積在襯底上形成石墨烯薄膜。
2.根據權利要求1所述的合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于所述的碳源材料為含有碳元素的固態碳源、液態碳源、氣態碳源材料或前述碳源中任意兩種或兩種以上混合碳源材料。
3.根據權利要求1所述的合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于所述的另一化學反應物質是指與含碳元素的碳源材料發生化學反應的物質，包括所述的含碳元素的材料或不含碳元素的材料。
4.根據權利要求1所述的合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于所述的化學反應不包括通過以石墨為原料經氧化-還原反應生成還原的氧化石墨烯的方法。
5.根據權利要求1所述的合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于所述的活性碳原子是指能夠形成石墨烯的碳原子；所述的含碳活性基團是指帶有正碳離子或負碳離子的基團。
6.根據權利要求1所述的合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于所述的沉積是指將化學反應生成物從反應容器轉移到所述的襯底上的過程，或所述的化學反應直接在所述的襯底上進行。
7.根據權利要求1所述的合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于所述的在襯底上的形成石墨烯薄膜是指化學反應的直接產物為石墨烯薄膜，或化學反應產物經過熱、微波、電子束、離子束、等離子體、激光等處理后的產物為石墨烯薄膜。
8.根據權利要求1所述的合成石墨烯薄膜的方法，其特征在于在襯底上形成的石墨烯薄膜的厚度為0.335?nm至50?nm。
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