[發明專利]一種電弧離子鍍鐵磁性復合結構靶材及其應用有效
| 申請號： | 201110288867.8 | 申請日： | 2011-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN103014632A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發明（設計）人： | 孫超;常正凱;肖金泉;宮駿;華偉剛;陳育秋 | 申請（專利權）人： | 中國科學院金屬研究所 |
| 主分類號： | C23C14/32 | 分類號： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人： | 周秀梅;李穎 |
| 地址： | 110016 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 電弧 離子鍍 鐵磁性 復合 結構 及其 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種電弧離子鍍鐵磁性復合結構靶材，其特征在于：所述復合結構靶材包括高磁導率的軟磁性材料靶殼(4)與鐵磁性材料靶材(2)，所述鐵磁性材料靶材(2)與軟磁性材料靶殼(4)相連。
2.按權利要求1所述電弧離子鍍鐵磁性復合結構靶材，其特征在于：所述軟磁性材料靶殼(4)為筒狀結構，鐵磁性材料靶材(2)位于軟磁性材料靶殼(4)內。
3.按權利要求1或2所述電弧離子鍍鐵磁性復合結構靶材，其特征在于：所述軟磁性材料靶殼(4)與鐵磁性材料靶材(2)通過螺栓固接。
4.按權利要求1所述電弧離子鍍鐵磁性復合結構靶材，其特征在于：所述軟磁性材料靶殼(4)與鐵磁性材料靶材(2)為間隙配合。
5.按權利要求1所述電弧離子鍍鐵磁性復合結構靶材的應用，其特征在于：將所述復合結構靶材作為電弧離子鍍材，進而得到沉積磁性薄膜。
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