[發(fā)明專利]聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110288767.5
• 申請日: 2011-09-26
• 公開（公告）號: CN102304746A
• 公開（公告）日: 2012-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曲立杰;李慕勤;馬臣;王晶彥;莊明輝;王晶
• 申請（專利權(quán)）人: 佳木斯大學(xué)
• 主分類號: C25D11/30
• 分類號: C25D11/30;C25D9/04
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109
• 代理人: 韓末洙

1.聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層，其特征在于聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層是Mg-Zn-Zr-Ca合金依次經(jīng)砂紙打磨、微弧氧化及電化學(xué)沉積處理制成的，微弧氧化處理所用微弧氧化電解液是CaH₂PO₄和NaOH按照1∶1～4的摩爾比配置的，微弧氧化電解液中CaH₂PO₄的濃度0.05～0.08mol/L，微弧氧化電解液的溶劑是蒸餾水；電化學(xué)沉積處理所用電解液由Ca(NO₃)₂、NH₄H₂PO₄、吡咯和蒸餾水組成，電解液中Ca(NO₃)₂的濃度為0.042～0.21mol/L，NH₄H₂PO₄的濃度為0.025～0.125mol/L，吡咯的濃度為0.01～0.05mol/L。

2.如權(quán)利要求1所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法是按下述步驟進行的：

步驟一、以Mg-Zn-Zr-Ca合金為基材，依次用500目、800目、1000目和1200目砂紙打磨，然后依次用丙酮、無水乙醇及蒸餾水在超聲波環(huán)境下清洗；

步驟二、將CaH₂PO₄和NaOH按照1∶1～4的摩爾比配置微弧氧化電解液，微弧氧化電解液中CaH₂PO₄的濃度0.05～0.08mol/L，微弧氧化電解液的溶劑是蒸餾水；

步驟三、將步驟一處理的基材放入步驟二配制的微弧氧化電解液中，然后在占空比為10％-30％、電極間距為40mm、電壓為200V～450V及電解液溫度20～40℃條件下進行微弧氧化處理2min～10min；

步驟四、將經(jīng)步驟三處理的基材放入到電解液中，然后在脈沖電流密度為10～40mA/cm²，占空比為50％～80％，電極間距為10mm及電解液溫度為40℃條件下進行電化學(xué)沉積10～60min；即得到聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層；步驟四所述電解液由Ca(NO₃)₂、NH₄H₂PO₄、吡咯和蒸餾水組成，電解液中Ca(NO₃)₂的濃度為0.042～0.21mol/L，NH₄H₂PO₄的濃度為0.025～0.125mol/L，吡咯的濃度為0.01～0.05mol/L。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟三是在超聲波輔助下進行微弧氧化處理，超聲波的工作頻率為40KHz，超聲波的功率為400～800W。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟三微弧氧化處理所用電壓為250V～400V。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟三微弧氧化處理3min～7min。

6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟三微弧氧化處理5min。

7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟四所述聚吡咯的濃度為0.01～0.03mol/L。

8.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟四所述聚吡咯的濃度為0.02mol/L。

9.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟四電化學(xué)沉積時間為20～40min。

10.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚吡咯磷酸鈣/氧化鎂生物陶瓷涂層的制備方法，其特征在于步驟四電化學(xué)沉積時間為30min。