[發明專利]硅氧烷聚合物組合物、固化膜以及固化膜的形成方法

有效

• 申請號: 201110288607.0
• 申請日: 2011-09-19
• 公開（公告）號: CN102566278A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 上田二朗;一戶大吾
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075;G03F7/00
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所 11216
• 代理人: 劉激揚

技術領域

本發明涉及硅氧烷聚合物組合物、固化膜以及固化膜的形成方法。

背景技術

顯示元件中一般基于使層狀地配置的布線間絕緣的目的而設置層間絕緣膜。作為層間絕緣膜的形成材料，為了得到必要的圖案形狀的工序數少，而且得到的層間絕緣膜要求高度的平整性，所以廣泛使用正型放射線敏感性組合物，還開發出了成本方面有利的負型放射線敏感性組合物(參照日本特開2000-162769號公報)。

另外，在液晶顯示元件等的制造工序中，由于進行溶劑的浸漬處理以及高溫處理，所以為了防止液晶顯示元件劣化，會設置保護膜。因此，保護膜要求平整性、透明性、足夠的表面硬度(耐擦傷性等)等。作為保護膜的形成材料公開了使用透明性等優異的硅氧烷聚合物類材料的技術(參照日本特開2000-001648號公報、日本特開2006-178436號公報、日本特開2008-248239號公報)。但是，目前的硅氧烷聚合物類材料無法滿足平整性、表面硬度等性能，希望開發出改善各種性能的硅氧烷聚合物類放射線敏感性組合物。

另一方面，廣泛使用觸摸屏。觸摸屏內部也需要用于保護元件的保護膜以及使微細的布線間絕緣的絕緣性固化膜。為了制造上述這種液晶顯示元件以及觸摸屏，根據其目的和工序，使用各種放射線敏感性組合物，但從削減成本的觀點出發，希望放射線敏感性組合物的統一化。

另外，在日本特開2002-131896號公報中公開了旋涂法作為在小型基板上涂布放射線敏感性組合物的方法。該旋涂法，是在基板中央滴加放射線敏感性組合物后旋轉基板的涂布方法，通過旋涂法可以得到良好的涂布均勻性。但是，在通過旋涂法涂布到大型基板上時，具有旋轉甩出而廢棄的放射線敏感性組合物變多、高速旋轉可能產生基板破裂、必須確保節拍時間等問題。另外，在用于更大型的基板時，為了在旋轉時有必要的加速度，所以要求特制的電機，在制造成本方面是不利的。

因此，作為代替旋涂法的涂布方法，可以采用從噴嘴噴出放射線敏感性組合物涂布到基板上的噴出噴嘴式涂布法。噴出噴嘴式涂布法是使涂布噴嘴在一定方向上掃過，在基板上形成涂膜的涂布方法，與旋涂法相比，可以減少涂布必須的放射線敏感性組合物的量，而且還可以縮短涂布時間，在制造成本方面是有利的。然而，使用目前的放射線敏感性組合物通過噴出噴嘴式涂布法涂布時，有可能產生涂布不均，成為實現作為層間絕緣膜、保護膜等的性質而要求的高度平整性的障礙。另外，例如在日本特開2009-98673號公報中，雖然記載了該公報中記載的放射線敏感性組合物可以通過旋涂法以外的方法涂布的意思，但是沒有具體公開合適的粘度、固體成分濃度、溶劑等，在實施例中也沒有通過噴出噴嘴式涂布法等涂布。

根據這種情況，希望開發出合適噴出噴嘴式涂布法，沒有涂布不均、外觀優異，而且可以實現高度平整性(膜厚均勻性)和高速涂布，且可以形成透明性、耐擦傷性優異的固化膜的硅氧烷聚合物組合物。

【現有技術文獻】

【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2000-162769號公報

【專利文獻2】日本特開2000-001648號公報

【專利文獻3】日本特開2006-178436號公報

【專利文獻4】日本特開2008-248239號公報

【專利文獻5】日本特開2002-131896號公報

【專利文獻6】日本特開2009-98673號公報

發明內容

本發明是根據上述問題提出的，其目的在于提供沒有涂布不均、外觀優異，而且可以實現高度平整性(膜厚均勻性)和高速涂布、且可以形成透明性、耐擦傷性優異的作為保護膜和層間絕緣膜的固化膜的硅氧烷聚合物組合物。

為了解決上述問題而提出的本發明是一種硅氧烷聚合物組合物，其包含：

[A]具有自由基反應性官能團的硅氧烷聚合物(以下，也稱作“[A]硅氧烷聚合物”)，

[B]自由基聚合引發劑，以及

[C]有機溶劑，

其中，固體成分濃度為5質量％以上30質量％以下，25℃時的粘度為2.0mPa·s以上10mPa·s以下，而且，

作為[C]有機溶劑至少包含(C1)20℃時的蒸氣壓是0.1mmHg以上、小于1mmHg的有機溶劑(以下，也稱作“(C?1)有機溶劑”)。