[發明專利]一種負載生物活性因子的仿生涂層制備方法無效
| 申請號: | 201110288240.2 | 申請日: | 2011-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN102327645A | 公開(公告)日: | 2012-01-25 |
| 發明(設計)人: | 李曉東;黃穎;李曉軍 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | A61L27/34 | 分類號: | A61L27/34;A61L27/54;A61K6/04 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 張法高;趙杭麗 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 負載 生物 活性 因子 仿生 涂層 制備 方法 | ||
1.一種負載生物活性因子的仿生涂層的制備方法,通過以下步驟實現:
(1)RGD接枝的聚電解質的制備:?
將含雙硫鍵的RGD多肽鏈段GRGDSPC(S-S)CPSDGRG在碳化二亞胺:N-羥基琥珀酰亞胺催化體系存在的條件下,接枝到聚電解質上,將所得到的產物透析純化后,加入木蘇糖或者谷胱甘肽與之反應,得到甘氨酸-精氨酸-甘氨酸-天冬氨酸-絲氨酸-脯氨酸-半胱氨酸-SH接枝的聚電解質,聚電解質分別為聚陽離子聚電解質和聚陰離子聚電解質;
所述的RGD是含精氨酸-甘氨酸-天冬氨酸的線性七肽結構,其肽鏈結構為甘氨酸-精氨酸-甘氨酸-天冬氨酸-絲氨酸-脯氨酸-半胱氨酸-SH;
所述聚電解質的濃度為0.1-50mg/ml,多肽鏈段的量與聚電解質中羧基含量的摩爾比為1:10000-1:1,碳化二亞胺:?N-羥基琥珀酰亞胺的用量為1:1-20:1,?碳化二亞胺的用量與多肽鏈段的用量的摩爾比為1:1-10:1,木蘇糖或者谷胱甘肽的濃度與催化體系中雙硫鍵的摩爾比為1:1-50:1;
(2)聚電解質溶液的配制:
聚陽離子電解質溶液配置:將步驟(1)獲得的RGD接枝的聚陽離子聚電解質或未改性的聚電解質陽離子配制成溶液,并在其中添加生物活性因子BMP-2或bFGF;
聚陰離子電解質溶液的配制:將步驟(1)獲得的RGD接枝的聚陰離子聚電解質或未改性的聚陰離子電解質配制成溶液;
其中各種聚電解質溶液的濃度范圍為0.1mg/ml-10mg/ml,聚電解質溶液中NaCl濃度為0.1-0.2mol/L,pH值為4.0,BMP-2的濃度為0.5-1000μg/ml,bFGF濃度為20-1000μg/ml;
(3)仿生涂層的制備:
將步驟(2)配置的溶液作如下組合:(a)添加生物活性因子BMP-2或bFGF的RGD接枝的聚陽離子聚電解質溶液和未改性的聚陰離子電解質溶液;(b)RGD接枝的聚陰離子聚電解質溶液和添加生物活性因子BMP-2或bFGF的未改性的聚陽離子電解質溶液;(c)添加生物活性因子BMP-2或bFGF的RGD接枝的聚陽離子聚電解質溶液和RGD接枝的聚陰離子聚電解質溶液;
用(a)-(c)任一組溶液,首先在鈦基種植體表面沉積聚陽離子電解質和生物活性因子,沉積一定時間后,充分水洗,然后沉積聚陰離子電解質層,沉積一定時間后,充分水洗,以上操作記為一次沉積循環,根據需要重復以上循環操作,最后得到需要的聚電解質復合層,然后,在濃度為0.5-10?mM的氯胺T溶液或者濃度為1-50?mM的雙氧水溶液中浸泡,取出,充分水洗,得到負載生物活性因子的仿生涂層;在氯胺T中的浸泡時間為5-180秒,在雙氧水中浸泡時間為5-60分鐘。
2.根據權利要求1所述的一種負載生物活性因子的仿生涂層的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述的所述聚陽電解質選用Ι型膠原、殼聚糖、酸溶明膠、聚精氨酸、聚賴氨酸、聚組氨酸中的一種或者幾種,得到的產物是RGD接枝的聚陽離子電解質,聚陽離子電解質的分子量為100-2000000D;聚陰電解質選用透明質酸、堿溶明膠、聚谷氨酸、聚天冬氨酸中的一種或者幾種,得到的產物是RGD接枝的聚陰離子電解質,聚陰離子電解質的分子量為100-5000000D。
3.根據權利要求1所述的一種負載生物活性因子的仿生涂層的制備方法,其特征在于,步驟(3)中一層聚陰離子電解質層或聚陽離子電解質層所用的沉積時間為5min-20min,所需的沉積循環為0.5-50次。
4.根據權利要求1所述的一種負載生物活性因子的仿生涂層的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所用的種植體表面為各種永久植入型種植體表面,選用經氧化性酸處理的純鈦或者鈦合金表面、非氧化型酸處理的純鈦或者鈦合金種植體表面、噴砂/酸處理的表面、堿熱法得到的純鈦或者鈦合金種植體表面、電化學得到的表面、羥基磷灰石涂層的純鈦或者鈦合金種植體表面、鈦或者羥基磷灰石噴漿表面的純鈦或者鈦合金種植體表面、鈦噴漿/酸處理的純鈦或者鈦合金表面、離子注入的純鈦或者鈦合金種植體表面、或激光處理的純鈦或者鈦合金種植體表面。
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