[發(fā)明專利]微晶硅薄膜太陽能電池的真空熱退火處理背電極技術(shù)

無效

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• 申請日: 2011-09-26
• 公開（公告）號: CN103022236A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設計）人: 陳宏昌;劉幼海;劉吉人
• 申請（專利權(quán)）人: 吉富新能源科技(上海)有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領域

本發(fā)明關(guān)於一種微晶硅薄膜太陽能電池的真空熱處理背電極技術(shù),?其目的:?系將基材型硅薄膜太陽能的背電極金屬薄膜表面平整化，以提升薄膜太陽能電池效率。?

背景技術(shù)

目前，業(yè)界關(guān)於基材型微晶硅薄膜太陽能電池的背電極，其金屬層薄膜在鍍膜后并無任何的處理，但如此缺點是微晶硅薄膜在背電極上不易形成大晶粒的結(jié)構(gòu)。微晶硅薄膜成長於基材型太陽能電池的背電極時，對於背電極膜面的平整程度相當敏感，完全平坦的背電極膜面雖易形成大晶粒的微晶硅薄膜，但由於反射率過高會導致吸收變小轉(zhuǎn)換效率較低；相對的薄膜表面過於粗糙的背電極雖然吸收較高，但微晶硅薄膜沉積時卻不易形成大晶粒的結(jié)構(gòu)。?

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明關(guān)於一種微晶硅薄膜太陽能電池的真空熱退火處理背電極技術(shù)，此技術(shù)包括玻璃、真空濺鍍沉積第一透明導電層薄膜、真空濺鍍沉積第一金屬層薄膜、真空濺鍍沉積第二金屬層薄膜、真空熱退火處理、與真空濺鍍沉積第二透明導電層薄膜。先在玻璃上依序真空濺鍍沉積第一透明導電層薄膜、真空濺鍍沉積第一金屬層薄膜、真空濺鍍沉積第二金屬層薄膜、以真空熱退火處理第二金屬層薄膜表面平整化后、最后真空濺鍍沉積第二透明導電層薄膜。本發(fā)明可將薄膜太陽能電池背電極表面平整化，進而改善微晶硅吸收層結(jié)構(gòu)，提升基材型硅薄膜太陽能電池效率。?

具體實施方示：茲將本發(fā)明配合附圖，詳細說明如下：請參閱圖1，為本發(fā)明之動作流程方塊示意圖。由圖中可知，先在玻璃上依序以真空濺鍍沉積第一透明導電層薄膜、真空濺鍍沉積第一金屬層薄膜、真空濺鍍沉積第二金屬層薄膜、以真空熱處理第二金屬層薄膜表面平整化后、最后真空濺鍍沉積第二透明導電層薄膜。?

請參閱圖2，圖2是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)承載腔之示意圖。圖中真空濺鍍系統(tǒng)共有承載腔81、第一透明導電層薄膜濺鍍腔92、第一金屬層薄膜濺鍍腔93、第二金屬層薄膜濺鍍腔94、真空加熱腔82、第二透明導電層薄膜濺鍍腔95。?

請參閱圖3，圖3是薄膜沉積前之玻璃示意圖。圖中為薄膜沉積前之玻璃1。?

?請參閱圖4，圖4是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第一透明導電層薄膜濺鍍腔之示意圖。圖中為玻璃1位於第一透明導電層薄膜濺鍍腔92。?

?請參閱圖5，圖5是玻璃上沉積第一透明導電層薄膜之示意圖。即在玻璃1上沉積上第一透明導電層薄膜2?請參閱圖6，圖6是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第一金屬層薄膜濺鍍腔之示意圖。圖中為玻璃1位於第一金屬層薄膜濺鍍腔93。?

請參閱圖7，圖7是在第一透明導電層薄膜上沉積第一金屬層薄膜之示意圖。即在第一透明導電層薄膜2上接著沉積第一金屬層薄膜3。?

請參閱圖8，圖8是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第二金屬層薄膜濺鍍腔之示意圖。圖中為玻璃1位於第二金屬層薄膜濺鍍腔94。?

請參閱圖9，圖9是在第一金屬層薄膜上沉積第二金屬層薄膜之示意圖。即在第一金屬層薄膜3上沉積第二金屬層薄膜4。?

請參閱圖10，圖10是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中真空加熱腔之示意圖。圖中為玻璃1位於真空加熱腔82。?

請參閱圖11，圖11是真空熱退火第二金屬層后薄膜表面平整化之示意圖。?

請參閱圖12，圖12是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第二透明導電層薄膜濺鍍腔之示意圖。圖中為玻璃1位於第二透明導電層薄膜濺鍍腔95。?

請參閱圖13，圖13是在表面平整化的第二金屬層上沉積第二透明導電層之示意圖。即在平整化后的第二金屬層薄膜4上沉積第二透明導電層5。?

附圖說明

下面結(jié)合附圖與實施例對本發(fā)明進一步說明。?

圖1是本發(fā)明之動作流程方塊示意圖。?

圖2是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)承載腔之示意圖。?

圖3是薄膜沉積前之玻璃示意圖。?

圖4是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第一透明導電層薄膜濺鍍腔之示意圖。?

圖5是玻璃上沉積第一透明導電層薄膜之示意圖。?

圖6是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第一金屬層薄膜濺鍍腔之示意圖。?

圖7是在第一透明導電層薄膜上沉積第一金屬層薄膜之示意圖。?

圖8是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第二金屬層薄膜濺鍍腔之示意圖。?

圖9是在第一金屬層薄膜上沉積第二金屬層薄膜之示意圖。?

圖10是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中真空加熱腔之示意圖。?

圖11是真空熱退火第二金屬層后薄膜表面平整化之示意圖。?

圖12是玻璃在真空濺鍍系統(tǒng)中第二透明導電層薄膜濺鍍腔之示意圖。?

圖13是在表面平整化的第二金屬層上沉積第二透明導電層之示意圖。?

?主要元件符號說明：1?…玻璃2?…第一透明導電層薄膜3?…第一金屬層薄膜4?…第二金屬層薄膜5?…第二透明導電層薄膜81?…承載腔92?…第一透明導電層薄膜濺鍍腔93?…第一金屬層薄膜濺鍍腔94?…第二金屬層薄膜濺鍍腔82?…真空加熱腔95?…第二透明導電層薄膜濺鍍腔。?