[發明專利]含氟氧基亞烷基聚合物組成物及含該組成物的表面處理劑、及由該表面處理劑進行表面處理的物品有效
| 申請號: | 201110286992.5 | 申請日: | 2011-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN102558877A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | 山根祐治;坂野安則;山口浩一;小池則之;木下博文 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | C08L83/08 | 分類號: | C08L83/08;C08J3/00;C03C17/30;G02B1/11;G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
| 地址: | 日本東京千代*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含氟氧基亞 烷基 聚合物 組成 表面 處理 進行 物品 | ||
1.一種含氟氧基亞烷基聚合物組成物,包含:
由下述式(1)所表示的一末端水解性聚合物
[化1]
式中,Rf基是-(CF2)d-(OC2F4)e(OCF2)f-O(CF2)d-,A是末端為-CF3基的1價的含氟基,Q是2價的有機基,Z是具有硅氧烷鍵的2價~8價的有機聚硅氧烷殘基,R是碳數為1~4的烷基或苯基,X是水解性基,a為2或3,b為1~6的整數,c為1~5的整數,α為0或1,d分別獨立為0或1~5的整數,e為0~80的整數,f為0~80的整數,且e+f=5~100的整數,重復單元可無規地鍵結;及
由下述式(2)所表示的兩末端水解性聚合物
[化2]
式中,Rf、Q、Z、R、X、a、b、c、α與所述式(1)相同,其特征在于:
相對于一末端水解性聚合物與兩末端水解性聚合物的合計摩爾,兩末端水解性聚合物的含量為0.1摩爾%以上且未滿10摩爾%。
2.根據權利要求1所述的含氟氧基亞烷基聚合物組成物,其特征在于:
還含有由下述式(3)所表示的無官能性聚合物
[化3]
A-Rf-A????(3)
式中,Rf及A與所述相同,且
相對于一末端水解性聚合物與兩末端水解性聚合物及無官能性聚合物的合計摩爾,一末端水解性聚合物的比例為80摩爾%以上,且兩末端水解性聚合物的比例為0.1摩爾%以上且未滿10摩爾%。
3.根據權利要求2所述的含氟氧基亞烷基聚合物組成物,其特征在于:相對于一末端水解性聚合物與兩末端水解性聚合物及無官能性聚合物的合計摩爾,無官能性聚合物的比例為1摩爾%~15摩爾%。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的含氟氧基亞烷基聚合物組成物,其特征在于:Z是2個~5個硅原子的鏈狀或環狀有機聚硅氧烷殘基。
5.根據權利要求1至3中任一項所述的含氟氧基亞烷基聚合物組成物,其特征在于:Q是含有選自由酰胺鍵、醚鍵、酯鍵、及乙烯基鍵所組成的組群中的一種以上的鍵的未經取代或經取代的碳數為2~12的烴基。
6.根據權利要求1至3中任一項所述的含氟氧基亞烷基聚合物組成物,其特征在于:水解性基X是選自由碳數為1~10的烷氧基、碳數為2~10的氧基烷氧基、碳數為1~10的酰氧基、碳數為2~10的烯氧基、及鹵基所組成的組群。
7.一種表面處理劑,包含根據權利要求1至6中任一項所述的含氟氧基亞烷基聚合物組成物、和/或含有該含氟氧基亞烷基聚合物的部分水解縮合物的含氟氧基亞烷基聚合物組成物。
8.一種根據權利要求1至6中任一項所述的含氟氧基亞烷基聚合物組成物的制造方法,其特征在于包括:
對包含一末端含有羧酸基的含氟氧基亞烷基聚合物及兩末端含有羧酸基的含氟氧基亞烷基聚合物的混合物進行吸附處理和/或分子蒸餾處理,使混合物中的兩末端含有羧酸基的含氟氧基亞烷基聚合物的含量相對于一末端含有羧酸基的含氟氧基亞烷基聚合物及兩末端含有羧酸基的含氟氧基亞烷基聚合物的合計摩爾為0.1摩爾%以上且未滿10摩爾%。
9.一種物品,其由根據權利要求7所述的表面處理劑進行了處理。
10.一種光學物品,其由根據權利要求7所述的表面處理劑進行了處理。
11.一種觸摸面板,其由根據權利要求7所述的表面處理劑進行了處理。
12.一種抗反射膜,其由根據權利要求7所述的表面處理劑進行了處理。
13.一種經SiO2處理的玻璃,其由根據權利要求7所述的表面處理劑進行了處理。
14.一種強化玻璃,其由根據權利要求7所述的表面處理劑進行了處理。
15.一種石英基板,其由根據權利要求7所述的表面處理劑進行了處理。
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