[發明專利]光子篩及其制作方法有效
| 申請號: | 201110286868.9 | 申請日: | 2011-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN103018808A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發明(設計)人: | 李海亮;史麗娜;朱效立;李冬梅;謝常青;劉明 | 申請(專利權)人: | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯長明 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光子 及其 制作方法 | ||
1.一種光子篩,其特征在于,包括:
透光襯底;
位于所述透光襯底上的不透光多層膜,所述不透光多層膜包括多層相間設置的金屬膜和介質膜;
設置在所述不透光多層膜上、呈多個環帶狀分布的多個小孔,每一環帶上的多個小孔隨機分布且彼此不重疊。
2.根據權利要求1所述的光子篩,其特征在于,所述環帶中心半徑為:rm2=2mfλ+m2λ2;其中,m為正整數,f為焦距,λ為波長。
3.根據權利要求2所述的光子篩,其特征在于,每一環帶上的多個小孔的直徑均相同,且為:dm=λ/2rm,其中λ為波長。
4.根據權利要求1所述的光子篩,其特征在于,所述金屬膜和介質膜均為五層。
5.根據權利要求4所述的光子篩,其特征在于,每層金屬膜和介質膜的厚度均為30nm。
6.根據權利要求1所述的光子篩,其特征在于,所述金屬膜材料為銀。
7.根據權利要求1所述的光子篩,其特征在于,所述介質膜材料為二氧化硅、三氧化二鋁、二氧化鉿或二氧化鋯。
8.根據權利要求1~7任一項所述的光子篩,其特征在于,所述透光襯底為熔融石英、普通玻璃或有機玻璃。
9.一種光子篩制作方法,其特征在于,包括:
對透光襯底進行拋光清洗;
在所述透光襯底上形成相間排列的金屬膜和介質膜,從而在所述透光襯底上形成不透光多層膜;
在所述不透光多層膜中形成多個環帶狀分布的多個小孔,且每一環帶上的多個小孔彼此不重疊。
10.根據權利要求9所述的方法,其特征在于,在所述不透光多層膜中形成多個環帶狀分布的多個小孔,具體包括:
在所述不透光多層膜上旋涂電子束抗蝕劑;
在具有多個環帶狀分布的多個小孔圖案的掩膜版的遮擋下,采用電子束照射所述電子束抗蝕劑,所述掩膜版上每一環帶上的多個小孔彼此均不重疊;
對采用電子束照射后的電子束抗蝕劑進行顯影,在所述電子束抗蝕劑內形成多個環帶狀分布的多個小孔;
以所述具有多個環帶狀分布的多個小孔的電子束抗蝕劑為掩膜對所述不透光多層膜進行刻蝕,在所述不透光多層膜中形成多個環帶狀分布的多個小孔。
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