[發(fā)明專利]一種提高數(shù)字無掩模光刻分辨力的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110286667.9
• 申請日: 2011-09-24
• 公開（公告）號(hào): CN102331685A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅寧寧;高益慶;張志敏;吳華明
• 申請（專利權(quán)）人: 南昌航空大學(xué)
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 南昌洪達(dá)專利事務(wù)所 36111
• 代理人: 劉凌峰

1.?一種提高數(shù)字無掩模光刻分辨力的方法，其特征在于：首先將原始空間頻率較高的灰度掩模分解成m?幅與原始灰度掩模大小相等、空間頻率稍低的灰度掩模，m為大于等于1的整數(shù)；再依次將每幅降頻后的灰度掩模分解成n?幅大小相等的低頻二值掩模，n為大于等于2的整數(shù)；原始空間頻率較高的灰度掩模共分解成m??n幅二值掩模，利用SLM動(dòng)態(tài)控制掩模的特性，將這m??n幅二值掩模沿垂直于掩模所在平面的方向順序?qū)?zhǔn)疊加曝光，每幅掩模的曝光時(shí)間為???????????????????????????????????????????????，其中i為大于等于1的整數(shù)，表示二進(jìn)制數(shù)據(jù)中的位序，從而得到優(yōu)于原始灰度掩模一次曝光的多次疊加曝光結(jié)果。

2.如權(quán)利要求1所述的提高數(shù)字無掩模光刻分辨力的方法，其特征在于：原始空間頻率較高的灰度掩模沿二維坐標(biāo)X方向或Y方向的一個(gè)周期中包含m個(gè)特征尺寸，每次以一個(gè)特征尺寸進(jìn)行采樣，一共可分解成m幅空間頻率稍低的灰度掩模。

3.如權(quán)利要求1所述的提高數(shù)字無掩模光刻分辨力的方法，其特征在于：將降頻后的灰度掩模各像素的灰度值轉(zhuǎn)換成二進(jìn)制數(shù)據(jù)，二進(jìn)制數(shù)據(jù)的位數(shù)由公式確定?，再依次取出所有像素二進(jìn)制數(shù)據(jù)的對應(yīng)位，所有像素的每一對應(yīng)位即構(gòu)成一幅低頻二值掩模，降頻后的每幅灰度掩?？煞纸獬傻皖l二值掩模的數(shù)量n可由降頻后的灰度掩模中最高灰度值G確定為：。