[發明專利]礦用水射流降塵噴霧裝置

無效

• 申請號: 201110286027.8
• 申請日: 2011-09-23
• 公開（公告）號: CN102312677A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 趙永旗
• 申請（專利權）人: 河南中煤礦業科技發展有限公司
• 主分類號: E21F5/04
• 分類號: E21F5/04;E21C35/22
• 代理公司: 安陽市智浩專利代理事務所 41116
• 代理人: 王好勤

1.礦用水射流降塵噴霧裝置，涉及礦用除塵裝置，噴霧裝置包括噴頭座、噴頭，若干噴頭設置于各自的噴頭座上，噴頭座置于旋轉裝置上，形成錐狀噴射；其中，所述的噴頭為可調式噴頭；分為兩種情況：其一，負壓旋轉降塵噴霧裝置的旋轉裝置，通過自身電機帶動，噴頭為固定式可調式噴頭，其斜向外形成錐狀；其二，可調水簾式弧面噴頭的旋轉裝置為利用掘進機頭搖臂上的卡盤，卡盤上安裝萬向接頭底座，萬向接頭底座上設置內置噴頭里芯的萬向接頭，噴頭處設置有弧面遮擋板。

2.根據權利要求1所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：負壓旋轉降塵噴霧裝置的結構是：電機支架上設置有電機，電機軸通過連軸裝置連接旋轉里芯，旋轉里芯設置于軸孔供水軸套內，旋轉里芯連接旋轉噴頭裝置，旋轉噴頭裝置上設置有若干可調式噴頭，旋轉里芯內管通向可調式噴頭，可調式噴頭斜向外形成錐狀；軸孔供水軸套上設置有水閥連接管，水閥連接管設置于軸孔供水軸套上，通過高壓膠管連接水箱自動控壓泵，水箱自動控壓泵為控制器所控，控制器連接紅外線探頭。

3.根據權利要求1所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：可調水簾式弧面噴頭的結構是：噴頭接頭設置于掘進機頭搖臂的卡盤上，噴頭接頭連接萬向接頭底座，萬向接頭底座上設置萬向接頭，萬向接頭可根據需要調整角度，從而可以調整噴霧方向和遠近；萬向接頭內置噴頭里芯，噴頭里芯的末端為噴嘴，噴頭內管通向噴嘴，噴頭里芯及噴嘴前設置一圓柱頭，圓柱頭內由斜面和弧面挖出一內凹槽，在弧面上設置有若干鋸齒狀橫向小槽。

4.根據權利要求1所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：負壓旋轉降塵噴霧裝置與可調水簾式弧面噴頭組合，即可調水簾式弧面噴頭設置于掘進機頭搖臂上，負壓旋轉降塵噴霧裝置設置于掘進機后部，其中，負壓旋轉降塵噴霧裝置，其結構是：設置于電機支架上設置有防爆電機，防爆電機軸通過連軸裝置連接旋轉里芯，旋轉里芯設置于軸孔供水軸套內，旋轉里芯連接旋轉噴頭裝置，旋轉噴頭裝置上設置有若干可調式噴頭，可調式噴頭斜向外形成環狀，錐形罩保護噴頭，軸孔供水軸套上設置有水閥連接管，水閥連接管設置于軸孔供水軸套上，通過高壓膠管連接水箱自動控壓泵，水箱自動控壓泵為控制器所控，控制器連接紅外線探頭；可調水簾式弧面噴頭的結構是：噴頭接頭設置于掘進機頭搖臂的卡盤上，噴頭接頭連接萬向接頭底座，萬向接頭底座上設置萬向接頭，萬向接頭可根據需要調整角度，從而可以調整噴霧方向和遠近；萬向接頭內置噴頭里芯，噴頭里芯的末端為噴嘴，噴頭里芯及噴嘴前設置一圓柱頭，圓柱頭內由斜面和弧面挖出一內凹槽，在弧面上設置有若干鋸齒狀橫向小槽。

5.根據權利要求2或4所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：可調式噴頭與旋轉里芯軸向的夾角銳角為10－60度。

6.根據權利要求2或4所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：還設置有控制器，控制器通過人體紅外線傳感器的感知信號傳輸給PLC微電腦數顯主控箱，主控箱指令輸出信息關閉或打開負壓旋轉噴霧裝置的電動機及可編程超高壓電動球閥。

7.根據權利要求2或4所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：所述可調式噴頭設置3－8個。

8.根據權利要求2或4所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：所述旋轉噴頭裝置上設置錐形罩，錐形罩護住旋轉可調噴頭。

9.、根據權利要求3或4所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：所述凹槽呈下部較深上部較淺、下部較窄上部較寬的扇形結構；或呈下部較深上部較淺、下部與上部同寬的長方形結構。

10.根據權利要求3或4所述的礦用水射流降塵噴霧裝置，其特征在于：所述弧面的弧度按如下設置：下端在噴嘴的一側，上端在噴嘴的另一側，中間呈圓滑過渡，在噴嘴正對著的弧面上鋸齒狀橫向小槽。