[發明專利]散熱元件及散熱元件的處理方法有效
| 申請號: | 201110285682.1 | 申請日: | 2011-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN102479915A | 公開(公告)日: | 2012-05-30 |
| 發明(設計)人: | 王正全;顏佳瑩;陳興華 | 申請(專利權)人: | 財團法人工業技術研究院 |
| 主分類號: | H01L33/64 | 分類號: | H01L33/64;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 散熱 元件 處理 方法 | ||
1.一種散熱元件,包括:
金屬本體,其主要材質為鋁,該金屬本體的表面具有多個微納米孔,該些微納米孔的孔徑小于300納米。
2.如權利要求1所述的散熱元件,其中該金屬本體的材質為鋁、或是鋁合金。
3.如權利要求1所述的散熱元件,其中該金屬本體的表面形成有一金屬氧化層,且該金屬氧化層具有該些微納米孔。
4.如權利要求3所述的散熱元件,其中該金屬氧化層的厚度小于15微米。
5.如權利要求3所述的散熱元件,其中該金屬氧化層的厚度為3微米至15微米。
6.如權利要求3所述的散熱元件,其中該金屬氧化層的厚度為5微米至10微米。
7.如權利要求3所述的散熱元件,其中該金屬氧化層的材質包括氧化鋁、鋁氧化合物或上述的組合。
8.如權利要求1所述的散熱元件,其中該些微納米孔的孔徑為5納米至300納米。
9.如權利要求1所述的散熱元件,其中該些微納米孔的孔徑為20納米至80納米。
10.如權利要求1所述的散熱元件,其中該金屬本體包括一底座以及連接于該底座的多個鰭片。
11.如權利要求1所述的散熱元件,還包括多個納米金屬,填充于該些微納米孔中。
12.如權利要求11所述的散熱元件,其中該納米金屬的材質包括選自由鎳、銅、鈀、銀、金、鉑、鈷、錫、鉻、鋅、鐵、鉬、鎘、硒以及上述的合金中至少其中一者所組成的群組。
13.一種散熱元件的處理方法,包括:
提供一金屬本體,其主要材質為鋁;
氧化該金屬本體的表面;以及
進行一蝕刻制作工藝以在該金屬本體的表面上形成多個微納米孔,其中該些微納米孔的孔徑小于300納米。
14.如權利要求13所述的散熱元件的處理方法,其中氧化該金屬本體的表面的方法包括使用硫酸、草酸或上述的組合所構成的水溶液將該金屬本體的表面氧化。
15.如權利要求13所述的散熱元件的處理方法,其中該蝕刻制作工藝所使用的蝕刻溶液包括硫酸、草酸、磷酸或其組合所構成的水溶液。
16.如權利要求13所述的散熱元件的處理方法,還包括進行一電鍍制作工藝以形成多個納米金屬,填充于該些微納米孔中。
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