[發(fā)明專利]環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110285201.7
• 申請日: 2011-09-23
• 公開（公告）號: CN103011350A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 倪明亮;葛加坤;胡尚英;張強;黃光華
• 申請（專利權(quán)）人: 四川環(huán)能德美科技股份有限公司
• 主分類號: C02F1/48
• 分類號: C02F1/48
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，包括分離器、進水裝置、出水裝置、卸渣機構(gòu)、輸渣機構(gòu)、動力系統(tǒng)(2)，其特征在于：

所述分離器由兩個或兩個以上磁盤(1)平行排列，磁盤間距為20-30毫米；

所述的進水裝置分布在磁盤(1)一側(cè)，由進水管(3)、進水孔板(4)組成，進水管(3)上通有布水孔(5)，進水孔板(4)上通有布水孔(5)，進水孔板(4)的板面與進水管(3)平行；

所述的出水裝置分布在磁盤(1)另一側(cè)，由出水管(6)、出水孔板(7)組成，出水孔板(7)上通有布水孔(5)，出水孔板(7)的板面與出水管(6)平行。

2.如權(quán)利要求1所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的進水管(3)上通有的布水孔(5)孔徑沿進水方向逐漸增大。

3.如權(quán)利要求1或2所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的進水管(3)上通有的布水孔(5)有1-25排，每排1-20孔，孔徑直徑為5-50毫米。

4.如權(quán)利要求1或2所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的進水管(3)上通有的布水孔(5)在靠近磁盤(1)一側(cè)。

5.如權(quán)利要求3所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的進水管(3)上通有的布水孔(5)在靠近磁盤(1)一側(cè)。

6.如權(quán)利要求4所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的進水管(3)徑向方向通有的布水孔(5)孔徑大小相同。

7.如權(quán)利要求1、2、4及5任一權(quán)利要求所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的進水孔板(7)通有的布水孔(5)在寬度和高度方向都是均勻分布。

8.如權(quán)利要求1、2、4及5任一權(quán)利要求所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的出水孔板(7)通有的布水孔(5)數(shù)目延出水方向遞減。

9.如權(quán)利要求1或2所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的卸渣機構(gòu)包括刨渣裝置和刮渣條(9)，均分布在磁盤(1)表面兩側(cè)，刮渣條(9)橫截面成型，型頂部內(nèi)側(cè)增加前角(10)，型頂部外側(cè)增加后角(11)；刨渣裝置由3根以上刨條(12)采用頭尾支撐安裝，刨條頭部(13)與刨條尾部(14)的支撐點在刨條長度的0.4-0.9倍位置，刮渣條(9)在刨條(12)下面。

10.如權(quán)利要求9所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述前角(10)為20°～60°，所述的后角(11)為5°～35°；刨條(12)呈長條狀，其橫截面可以為正方形、長方形、梯形中的一種。

11.如權(quán)利要求10所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的刨條尾部(14)為倒圓角。

12.如權(quán)利要求1或2所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的輸渣機構(gòu)包括螺旋槽(15)、螺旋軸(16)、螺旋葉片(17)、出料槽(18)、齒輪(19)和軸承座(20)，螺旋葉片(17)分布在螺旋軸(16)上，螺旋槽(15)在螺旋軸(16)下方，出料槽(18)在螺旋槽(15)端口下方，齒輪(19)通過軸承座(20)與螺旋軸(16)連接。

13.如權(quán)利要求12所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：螺旋葉片(17)的螺距沿出渣方向逐漸增大，增大量根據(jù)螺旋鉸刀的長度決定，增大比例為10％～30％。

14.如權(quán)利要求13所述的環(huán)列式磁盤液體凈化設(shè)備，其特征在于：所述的輸渣機構(gòu)還包括分布在螺旋軸齒輪端的密封(21)。