[發明專利]一種三氧化二鋁陶瓷靶材的生產工藝

無效

• 申請號: 201110284251.3
• 申請日: 2011-09-18
• 公開（公告）號: CN102432274A
• 公開（公告）日: 2012-05-02
• 發明（設計）人: 陳海軍
• 申請（專利權）人: 陳海軍
• 主分類號: C04B35/10
• 分類號: C04B35/10;C04B35/622
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種三氧化二鋁陶瓷靶材的生產工藝，其特征在于包括以下步驟：

1)將高純氫氧化鋁放入坩堝內，用燒結爐將坩堝內的高純氫氧化鋁加熱至1200℃進行高溫分解，分解生成高純度三氧化二鋁顆粒，顆粒大小在35-45微米，然后將生成的三氧化二鋁顆粒經氣流粉碎機的進料桿傳送到進料室，在重力作用下三氧化二鋁顆粒落入粉碎室，粉碎室四周設有相向排列的高壓進氣噴嘴，經過凈化和干燥的壓力為0.8-1Mpa的壓縮空氣，從噴嘴射出，形成超聲氣流，三氧化二鋁顆粒在高速氣流交點中心碰撞，瞬間內被粉碎，生成三氧化二鋁微粒，微粒大小在0.5微米以下，再將三氧化二鋁微粒投入到噴霧造粒干燥機中，啟動噴霧造粒干燥機，三氧化二鋁微粒經霧化器霧化后噴出霧滴與300℃的高溫熱空氣接觸，水分被蒸發，濕固體細粉在下落過程中進一步干燥并落至霧化造粒區，同時與從流化床內隨熱氣流飛揚上浮的三氧化二鋁粉末接觸，形成35-50微米的三氧化二鋁顆粒進入塔底的流化床，流化床溫度為200℃，進入流化床的三氧化二鋁顆粒在流化床干燥30-45分鐘，將三氧化二鋁顆粒的水分排出，使三氧化二鋁顆粒含水量低于1％；

2)將步驟1生成的35-50微米的三氧化二鋁微粒投入到噴霧造粒干燥機中，在噴霧造粒干燥機的運轉下，三氧化二鋁顆粒經霧化器霧化后噴出霧滴與高溫熱空氣接觸，水分被蒸發，濕固體細粉在下落過程中進一步干燥并落至霧化造粒區，同時與從流化床內隨熱氣流飛揚上浮的三氧化二鋁粉末接觸，形成2-4mm的三氧化二鋁球球體，然后在300℃-400℃的溫度下燒結3小時，排除三氧化二鋁球球體里面的水汽，制成純度為99.99-99.999％的三氧化二鋁球體；

3)在25℃--100℃、100MPA的環境下，將步驟2生成的三氧化二鋁球體壓制成各類形體的靶材；壓制產品時保持三氧化二鋁球體溫度為25℃--100℃，成形壓力為100MPA；

4)對壓制成型的靶材進行三次高溫燒結，第一次燒結采用常壓預燒1200℃，保溫2-4小時；第二次燒結采用溫度在1300-1600℃，真空度達到0.0025PA.保溫3-6小時，使用氮氣做為保護氣體.保溫后采用自然冷卻的方式完成第二次燒結；第三次燒結是在常壓下除應力燒結，由常溫燒結到最高溫度1200℃，在此溫度下需保溫4小時，然后自然冷卻到100℃以下；

5)對產品進行包裝。