[發明專利]用于消弧的設備和系統以及裝配方法有效
| 申請號: | 201110283859.4 | 申請日: | 2011-09-16 |
| 公開(公告)號: | CN102404928A | 公開(公告)日: | 2012-04-04 |
| 發明(設計)人: | S·A·卡特勒;D·A·羅巴奇;G·W·羅斯克 | 申請(專利權)人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | H05H1/34 | 分類號: | H05H1/34 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 湯春龍;朱海煜 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 設備 系統 以及 裝配 方法 | ||
1.一種消融等離子體槍(100),包括具有第一直徑(110)的第一部分(106)以及具有比所述第一直徑(110)更大的第二直徑(112)的第二部分(108),其中腔室(104)由所述第一部分(106)和所述第二部分(108)來限定。
2.如權利要求1所述的消融等離子體槍(100),其中,所述第二部分(108)定位在所述第一部分(106)之上。
3.如權利要求1所述的消融等離子體槍(100),其中,所述第一部分(106)和所述第二部分(108)整體地形成。
4.如權利要求1所述的消融等離子體槍(100),還包括其中包含第一端(126)的第一槍電極(122)以及其中包含第二端(128)的第二槍電極(124),其中所述第一端(126)和所述第二端(128)從所述腔室(104)的中心軸沿相反方向延伸。
5.如權利要求4所述的消融等離子體槍(100),其中,所述第一槍電極(122)的所述第一端(126)以及所述第二槍電極(128)的所述第二端(128)在所述腔室(104)的徑向相對側進入所述腔室(104)。
6.如權利要求1所述的消融等離子體槍(100),其中,所述腔室(104)還包括部分地延伸于所述第二直徑(112)上的開口端(120),使得所述開口端(120)限定噴嘴(118)。
7.如權利要求1所述的消融等離子體槍(100),還包括:
具有開口端(120)的杯(102),其中所述腔室(104)在所述杯(102)內形成;以及
大小確定為包圍所述杯(102)的蓋(114),其中所述蓋(114)包括噴嘴(118)。
8.如權利要求7所述的消融等離子體槍(100),還包括基座(116),其中所述蓋(114)安裝到所述基座(116)上,并且所述杯(102)定位在所述基座(116)與所述蓋(114)之間。
9.一種電弧閃光消除系統(300),包括:
多個主電極(304,306),其中所述多個主電極(304,306)中的每個主電極耦合到電路(310,312)的不同部分;以及
相對于所述多個主電極(304,306)定位的消融等離子體槍(100),其中所述消融等離子體槍(100)包括具有第一直徑(110)的第一部分(106)以及具有比所述第一直徑(110)更大的第二直徑(112)的第二部分(108),并且其中腔室(104)由所述第一部分(106)和所述第二部分(108)來限定。
10.如權利要求9所述的電弧閃光消除系統,其中,所述多個主電極(304,306)間隔開,使得所述多個主電極之間的區域限定主間隙(308),并且其中所述消融等離子體槍(100)配置成將消融等離子體(318)注入所述主間隙(308),以便觸發所述多個主電極(304,306)之間的電弧。
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