[發明專利]一種低濃度含汞廢水的處理方法

有效

• 申請號: 201110282930.7
• 申請日: 2011-09-09
• 公開（公告）號: CN102381749A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 吳彬;劉中海;張永龍;郭健;張國玉;馬銀山;裴建偉;陸俊
• 申請（專利權）人: 天辰化工有限公司
• 主分類號: C02F1/70
• 分類號: C02F1/70;C02F9/04;C02F1/28;C02F101/20
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技術領域：

本發明涉及污水處理領域，特別是低濃度含汞廢水的處理方法。

背景技術：

由于聚氯乙烯的廣泛應用，以及我國電石資源十分豐富和電石乙炔法工藝技術的日益成熟，使得電石法聚氯乙烯工業迅猛發展，然而帶來巨大經濟效益的同時也帶來了嚴重的環境污染問題，由于以HgCl₂作為催化劑，不可避免的造成汞的流逝，隨之造成的汞污染問題也日趨嚴重。雖然含汞廢水的危害早已被人們所認識，并且開發了很多方法進行處理，但大部分文獻中的處理數據是實驗室或中試研究的結果，實際用于工業中含汞廢水處理的工程實踐尚不成熟，特別是針對含汞濃度低于0.1mg/l的低濃度含汞廢水的處理尚未有有效地處理方法。

中國專利CN?102030440A中公布了“汞污染水處理工藝”，其主要包括預處理和汞的去除，其中預處理：將收集的污染水進行預處理，使得水體中的懸浮物濃度≤100mg/l；汞的去除：(1)無機汞的去除；(2)吸附去除汞及汞鹽：經專性沸石和羥基類活性炭二級吸附；羥基類活性炭，實現對污水中的無機汞鹽類進一步吸附處理；(3)離子交換去除汞及汞鹽，進行對污染水中的汞的最終處理，使處理后污染水中的汞離子達到汞排放限制值為0.5μg/l。但該方法存在以下缺點：一是采用化學沉淀法存在著易引起水質硬化，對低濃度含汞廢水處理不徹底；二是采用活性炭吸附，其處理效果與汞的初始形態和濃度、廢水的PH值及接觸時間有很大關系，過程不易控制，而且處理費用較高；三是采用離子交換法造價較高，不利于廣泛推廣應用。

發明內容：

本發明在于解決了目前低濃度含汞廢水難以處理從而造成對環境污染的問題，進而提供了一種對低濃度含汞廢水處理徹底、投資少、工藝簡單合理、易實施、見效快的低濃度含汞廢水的處理方法。

本發明采用的技術方案是：一種低濃度含汞廢水的處理方法，包括依次相連的含汞廢液貯槽、廢水輸送泵、還原反應器和旋液分離器；首先將含汞濃度低于0.1mg/l的低濃度含汞廢水，在含汞廢液貯槽中收集后，通過廢水輸送泵以均勻穩定的流速送入還原反應器，還原反應器內的填料為金屬鋅，在還原反應器中低濃度含汞廢水中的汞離子與金屬鋅發生還原反應，析出液態汞單質并與還原后的廢水一起進入旋液分離器中進行液液分離，經分離后的汞單質由旋液分離器的底部排出并裝桶密封收集，分離后的上清液由旋液分離器的頂部出來，當含汞濃度≤0.5μg/l后排放。使用鋅粒還原劑可使汞離子還原成金屬汞，而且還原劑價格低廉，溶劑中損失少，除汞效率高，有利于低濃度含汞廢水的處理。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，旋液分離器后連接一吸附器，吸附器內的填料為分子篩，從旋液分離器頂部出來的分離后的上清液進入吸附器，在還原反應器中未反應的汞離子被吸附器內的分子篩吸附，當吸附后的廢水含汞濃度≤0.5μg/l后排放。分子篩對二價汞有較強的去除作用，并有較大的吸附容量，可在反應條件(汞濃度、PH、溫度、接觸時間等)較寬的范圍使用，工藝過程易控制、易實施，有利于進一步提高低濃度含汞廢水的處理效率。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，吸附器后設置一廢水循環泵，吸附后的廢水通過廢水循環泵以均勻穩定的流速將廢水再送入還原反應器進行還原反應，經旋液分離器進行液液分離，旋液分離器頂部出來的分離后的上清液再進入吸附器，分離后的上清液含汞濃度≤0.5μg/l后排放。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，吸附器頂部連接一氣相吸附裝置，氣相吸附裝置內填裝有活性炭。使用活性炭，有利于將氣相中的汞吸附到活性炭中，達到了保護環境的目的。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，分子篩是可再生的，當分子篩達到吸附飽和后，在吸附器底部通入蒸汽對分子篩進行再生，通過分子篩的含汞蒸汽進入氣相吸附裝置后排放。利用化工生產過程中的蒸汽余熱對分子篩進行再生，可有效利用能源，降低生產成本，達到了保護環境的目的。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，吸附器內的填料為球狀或柱狀的13X型分子篩、5A型分子篩或固體活性炭、重金屬螯合樹脂。其中13X和5A分別表示分子篩的型號，其孔徑分別為10A和5A。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，還原反應器內的填料為金屬，其離子態的電極電位低于汞離子的電極電位。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，還原反應器內的填料為金屬鋅、金屬鐵、金屬鋁。

所述的一種低濃度含汞廢水的處理方法，還原反應器內的填料為5-20mm的球狀或柱狀。