[發(fā)明專利]源偏振的優(yōu)化有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110281510.7 | 申請日： | 2011-09-21 |
| 公開（公告）號： | CN102411263A | 公開（公告）日： | 2012-04-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳洛祁 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 吳敬蓮 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 偏振 優(yōu)化 | ||
1.一種用于改進(jìn)光刻過程模擬的計(jì)算機(jī)執(zhí)行方法，包括下列步驟：
通過一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)表示在照射源的光瞳面處的預(yù)選組源點(diǎn)中的每個(gè)源點(diǎn)，其中所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的至少一些變量參數(shù)表征在所述源點(diǎn)處的偏振狀態(tài)；
形成代價(jià)函數(shù)，所述代價(jià)函數(shù)包括使用所述預(yù)選組源點(diǎn)投影的設(shè)計(jì)布局的表示的空間圖像強(qiáng)度；
計(jì)算所述代價(jià)函數(shù)相對于所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的所述至少一些變量參數(shù)的梯度；
基于所計(jì)算的梯度迭代地重新配置所述照射源中的所述預(yù)選組源點(diǎn)和所述設(shè)計(jì)布局的所述表示中的一者或兩者，直到獲得期望的光刻響應(yīng)為止。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的至少一些變量參數(shù)還表征在所述源點(diǎn)處的強(qiáng)度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在所述照射源中的所述預(yù)選組源點(diǎn)和所述設(shè)計(jì)布局的所述表示被針對于光刻過程的預(yù)定的光刻參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)被選擇以在特定源點(diǎn)處產(chǎn)生可定制的偏振條件，其中所述可定制的偏振條件包括多種偏振狀態(tài)的混合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在特定源點(diǎn)處的可能的偏振狀態(tài)的與物理硬件相關(guān)的限制在模擬中以一組約束條件表征。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中根據(jù)下列參數(shù)用公式表示所述代價(jià)函數(shù)：在給定過程窗口上的邊緣定位誤差、反歸一化圖像對數(shù)斜率、圖像斜率的輪廓積分、邊緣圖像值以及圖像對數(shù)斜率值。
7.一種用于改進(jìn)光刻過程的方法，包括步驟：
在光刻過程的模擬中，通過一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)表示在照射源的光瞳面處的預(yù)選組源點(diǎn)中的每個(gè)源點(diǎn)，其中所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的至少一些變量參數(shù)表征在所述源點(diǎn)處的偏振狀態(tài)；
基于代價(jià)函數(shù)的相對于所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的所述至少一些變量參數(shù)所計(jì)算的梯度，迭代地重新配置在所述照射源中的所述預(yù)選組源點(diǎn)和所述設(shè)計(jì)布局的表示中的一者或兩者，直到獲得期望的光刻響應(yīng)為止，其中所述代價(jià)函數(shù)包括使用所述預(yù)選組源點(diǎn)投影的所述設(shè)計(jì)布局的表示的空間圖像強(qiáng)度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的至少一些變量參數(shù)還表征在所述源點(diǎn)處的強(qiáng)度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中在所述照射源中的所述預(yù)選組源點(diǎn)和所述設(shè)計(jì)布局的所述表示被針對于光刻過程的預(yù)定的光刻參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述光刻過程的所述光刻參數(shù)包括下列參數(shù)中的一個(gè)或更多個(gè)：臨界尺寸一致性、過程窗口、過程窗口的尺寸、MEEF、最大NILS以及散焦時(shí)的最大NILS。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)被選擇以在特定源點(diǎn)處產(chǎn)生可定制的偏振條件，其中所述可定制的偏振條件包括多種偏振狀態(tài)的混合。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中在特定源點(diǎn)處的可能的偏振狀態(tài)的與物理硬件相關(guān)的限制在模擬中以一組約束條件表征。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中與物理硬件相關(guān)的限制包括下列內(nèi)容中的一者或兩者：能夠通過偏振控制器裝置以物理方式產(chǎn)生的不同的偏振狀態(tài)的數(shù)量；和對將光朝向所述特定源點(diǎn)引導(dǎo)的一個(gè)或更多個(gè)光學(xué)元件的位置的依賴性。
14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中根據(jù)下列參數(shù)用公式表示所述代價(jià)函數(shù)：在給定過程窗口上的邊緣定位誤差、反歸一化圖像對數(shù)斜率、圖像斜率的輪廓積分、邊緣圖像值以及圖像對數(shù)斜率值。
15.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述方法還包括步驟：
在迭代過程中，在將所述設(shè)計(jì)布局的所述表示保持恒定的同時(shí)對所述照射源的偏振進(jìn)行優(yōu)化。
16.一種用于改進(jìn)光刻過程模擬的計(jì)算機(jī)執(zhí)行方法，包括下列步驟：
通過一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)表示在照射源的光瞳面處的預(yù)選組源點(diǎn)中的每個(gè)源點(diǎn)，其中所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的至少一些變量參數(shù)表征在所述源點(diǎn)處的偏振狀態(tài)和強(qiáng)度；
形成代價(jià)函數(shù)，所述代價(jià)函數(shù)包括使用所述預(yù)選組源點(diǎn)投影的設(shè)計(jì)布局的表示的空間圖像強(qiáng)度；
計(jì)算所述代價(jià)函數(shù)相對于所述一個(gè)或更多個(gè)變量參數(shù)中的所述至少一些變量參數(shù)的梯度；
基于所計(jì)算的梯度迭代地重新配置所述照射源中的所述預(yù)選組源點(diǎn)和所述設(shè)計(jì)布局的所述表示中的一者或兩者，直到獲得期望的光刻響應(yīng)為止。
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