[發明專利]用于化學氣相沉積的裝置

有效

• 申請號: 201110280169.3
• 申請日: 2011-09-21
• 公開（公告）號: CN102586755A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 許閏成;樸勝一
• 申請（專利權）人: SNT能源技術有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種用于化學氣相沉積的裝置，包括：

工藝室，所述工藝室被構造成界定反應空間；

背板，所述背板被設置在反應空間上方，且在所述背板的中間具有氣體入口；

氣體擴散部件，所述氣體擴散部件被設置在氣體入口下方且與所述氣體入口分離，所述氣體擴散部件通過第一耦合部件耦合到背板，和所述氣體擴散部件被配置成擴散經由氣體入口提供的工藝氣體；

噴頭，所述噴頭被設置在背板和氣體擴散部件下方且與所述背板和氣體擴散部件分離，所述噴頭的中間部分通過第二耦合部件耦合到氣體擴散部件，且所述噴頭中穿孔形成有多個噴灑孔；和

基座，所述基座被設置在噴頭下方且與所述噴頭分離，且所述基座支撐基板；

其中所述氣體擴散部件具有形成于其中的多個氣體引導孔，使得經由氣體入口提供的工藝氣體擴散向氣體擴散部件的下側，所述多個氣體引導孔垂直穿透所述氣體擴散部件。

2.如權利要求1所述的裝置，其中所述多個氣體引導孔以規則間隔沿著圍繞氣體擴散部件的中心的圓的圓周設置。

3.如權利要求1所述的裝置，其中所述氣體擴散部件包括：

支撐板；和

形成在所述支撐板的上表面上的突出部件。

4.如權利要求3所述的裝置，其中所述氣體引導孔形成在所述突出部件中。

5.如權利要求1所述的裝置，其中在所述氣體擴散部件中形成有連接所述氣體引導孔的底部的環形擴散通路。

6.如權利要求5所述的裝置，其中所述擴散通路具有向著下側變寬的矩形形狀截面。

7.如權利要求6所述的裝置，還包括安裝在所述氣體擴散部件的下表面上的擴散板，以便覆蓋所述擴散通路，

其中在所述擴散板中形成有多個擴散孔，所述多個擴散孔的中心偏離所述氣體引導孔的中心。

8.如權利要求7所述的裝置，其中所述擴散孔的數量大于所述氣體引導孔的數量。

9.如權利要求7所述的裝置，其中所述多個擴散孔以規則間隔沿著圍繞氣體擴散部件的中心的圓的圓周設置。

10.如權利要求7所述的裝置，其中在所述氣體擴散部件的下表面上形成有接收溝槽，在所述接收溝槽中接收有所述擴散板。

11.如權利要求7所述的裝置，其中所述擴散孔的上端截面積向著擴散孔的上側增大。

12.如權利要求7所述的裝置，其中所述擴散孔的下端截面積向著擴散孔的下側增大。

13.如權利要求3所述的裝置，其中所述支撐板的橫向側面向著所述支撐板的中心傾斜。

14.如權利要求3所述的裝置，其中：

所述工藝室具有六面體形狀；

所述支撐板為盤狀；

所述突出部件具有直角錐形狀；和

所述突出部件的橫向側面分別面對工藝室的拐角。

15.如權利要求14所述的裝置，其中所述第一耦合部件設置在自所述突出部件的中心穿過所述突出部件的拐角的線性路徑上。

16.如權利要求3所述的裝置，其中：

所述工藝室具有六面體形狀；

所述支撐板具有矩形板形狀；

所述突出部件具有圓錐形狀；和

所述支撐板的橫向側面分別面對工藝室的拐角。

17.如權利要求16所述的裝置，其中所述第一耦合部件設置在自所述突出部件的中心穿過所述支撐板的拐角的線性路徑上。

18.如權利要求1所述的裝置，其中所述第一耦合部件和第二耦合部件中的至少一個是螺絲。

19.如權利要求1所述的裝置，還包括夾持部件，所述夾持部件通過第三耦合部件耦合到背板，以便支撐噴頭的邊緣，并且所述夾持部件設置在噴頭的橫向側邊上，在所述夾持部件和所述噴頭之間具有預定間隔。

20.如權利要求19所述的裝置，還包括熱阻部件，所述熱阻部件插入在所述夾持部件和背板之間，且所述熱阻部件的一側與背板的下表面接觸，所述熱阻部件的另一側與噴頭的上表面接觸。