[發明專利]提高納米PET薄膜表面親水性的制備方法有效
| 申請號: | 201110278863.1 | 申請日: | 2011-09-20 |
| 公開(公告)號: | CN102367571A | 公開(公告)日: | 2012-03-07 |
| 發明(設計)人: | 張波;朱葛俊;陸建軍;虞文武;沈俊;姜清;張小培 | 申請(專利權)人: | 常州機電職業技術學院 |
| 主分類號: | C23C16/509 | 分類號: | C23C16/509 |
| 代理公司: | 常州市維益專利事務所 32211 | 代理人: | 賈海芬 |
| 地址: | 213164 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 提高 納米 pet 薄膜 表面 親水性 制備 方法 | ||
1.一種提高納米PET薄膜表面親水性的制備方法,其特征在于:將表面清洗后的納米PET薄膜放在射頻等離子體發生器的發生腔兩電極中間,且納米PET薄膜兩表面分別與兩電極距離控制在5~30cm,發生腔內的本底真空度控制在5~10Pa,常溫在氬氣或氬氣與氦氣的混合氣體的條件下進行輝光放電,輝光放電時的工作真空度控制在20~45Pa,放電時間控制在3~5.5min,對納米PET薄膜表面進行第一次改性,第一次改性后的納米PET薄膜表面接觸角60°~80°,表面張力可達到≥34mN/m。;將第一次改性后的納米PET薄膜表面暴露于空氣中,經24~84小時的時效處理,再將納米PET薄膜放置射頻等離子體發生器的發生腔內的兩電極中間,納米PET薄膜的兩表面分別與兩電極距離控制在20~45cm,發生腔內的本底真空度控制在1~6P,常溫在氬氣或氬氣與氦氣混合氣體的條件下進行輝光放電,輝光放電時的工作真空度控制在10~35Pa,放電時間控制在5~7.5min,對納米PET薄膜表面進行第二次改性,第二次改性后的納米PET薄膜表面接觸角30°~55°,表面張力可達到≥38mN/m。
2.根據權利要求1所述的提高納米PET薄膜表面親水性的制備方法,其特征在于:所述的射頻等離子體發生器的射頻電源頻率為13.56MHz,第一次改性時的射頻電源的工作功率為40~65W,第二次改性時的射頻電源的工作功率為20~45W。
3.根據權利要求1所述的提高納米PET薄膜表面親水性的制備方法,其特征在于:所述電極為平板電極,且電極的表面積與薄膜表面積之比為2~3∶1。
4.根據權利要求1所述的提高納米PET薄膜表面親水性的制備方法,其特征在于:所述混合氣體中氬氣與氦氣的質量比為4∶1~2.0
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于常州機電職業技術學院,未經常州機電職業技術學院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110278863.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種精密復合磷化槽液及磷化工藝
- 下一篇:重熔無熱裂紋低鉛低鉍銅合金
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





