[發(fā)明專利]壓載水中殘余的氧化劑(TRO)濃度的測定裝置、監(jiān)視方法及監(jiān)視系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110278577.5
• 申請日: 2011-06-24
• 公開（公告）號: CN102435603A
• 公開（公告）日: 2012-05-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 佐藤吉明;植木修次;宮鍋僚一;本田健一
• 申請（專利權(quán)）人: 三井造船株式會社
• 主分類號: G01N21/78
• 分類號: G01N21/78;C02F1/72;C02F1/76
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 王健

1.殘余氧化劑濃度的測定裝置，其特征在于，向被取進(jìn)船舶的壓載水中注入與該壓載水中的殘余氧化劑反應(yīng)并顯色的指示試劑，基于所述顯色的指示試劑的吸光度，測定所述壓載水中的殘余氧化劑濃度。

2.如權(quán)利要求1所述的殘余氧化劑濃度的測定裝置，其特征在于，所述指示試劑為N，N-二乙基時苯二胺鹽。

3.壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其中，向被取進(jìn)船舶的壓載水中注入與該壓載水中的殘余氧化劑反應(yīng)并顯色的指示試劑，使用基于所述顯色的指示試劑的吸光度而測定所述壓載水中的殘余氧化劑濃度的殘余氧化劑測定裝置，其特征在于，

在排放所述壓載水時，所述測定裝置測定被排放的壓載水中的殘余氧化劑濃度，監(jiān)視該測定的殘余氧化劑濃度為預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值以下。

4.如權(quán)利要求3所述的壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其特征在于，在取進(jìn)所述壓載水時，所述測定裝置測定通過為了殺滅所述壓載水中的水生生物而被注入所述壓載水中的活性物質(zhì)與所述壓載水的反應(yīng)而生成的殘余氧化劑，基于該殘余氧化劑的測定值，控制注入所述壓載水中的所述活性物質(zhì)的注入量。

5.如權(quán)利要求4所述的壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其特征在于，所述測定裝置測定被排放的壓載水中的殘余氧化劑濃度，基于該測定結(jié)果，控制中和所述殘余氧化劑的中和劑的注入量。

6.如權(quán)利要求3～5中任一項所述的壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其特征在于，當(dāng)通過所述測定裝置測定的殘余氧化劑濃度為所述設(shè)定值以上時，進(jìn)行從所述壓載水中除去所述殘余氧化劑的處理。

7.殘余氧化劑濃度的測定裝置，其為了控制船舶中的壓載水的排放處理，測定所述壓載水中的殘余氧化劑濃度，其特征在于，向所述壓載水中注入含有N，N-二乙基對苯二胺鹽的指示試劑，不向該壓載水中注入碘化鉀，其于與所述壓載水中的殘余氧化劑反應(yīng)并顯色的所述指示試劑的吸光度，測定所述壓載水中的殘余氧化劑濃度。

8.壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其特征在于，權(quán)利要求7所述的殘余氧化劑濃度的測定裝置，測定從所述船舶排放的壓載水中的殘余氧化劑濃度，

監(jiān)視該測定的殘余氧化劑濃度在預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值以下。

9.如權(quán)利要求2所述的壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其特征在于，在取進(jìn)所述壓載水時，權(quán)利要求7所述的殘余氧化劑濃度的測定裝置，測定注入了次氯酸鈉、氯、二氧化氯、過氧化氫中的任一活性物質(zhì)的壓載水中的殘余氧化劑濃度，基于該殘余氧化劑濃度的測定值控制被注入所述壓載水中的所述活性物質(zhì)的注入量。

10.如權(quán)利要求8或9所述的壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其特征在于，權(quán)利要求7所述的殘余氧化劑濃度的測定裝置，測定中和所述壓載水中的殘余氧化劑的中和劑被注入前的壓載水中的殘余氧化劑濃度，基于該殘余氧化劑濃度的測定值，控制所述中和劑的注入量。

11.如權(quán)利要求8所述的壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視方法，其特征在于，所述被排放的壓載水中的殘余氧化劑濃度為所述設(shè)定值以上時，進(jìn)行從所述壓載水中除去所述殘余氧化劑的處理。

12.壓載水中的殘余氧化劑濃度的監(jiān)視系統(tǒng)，其特征在于，具備：殘余氧化劑濃度測定裝置和監(jiān)視裝置，所述測定裝置向從船舶中排放的壓載水中注入含有N，N-二乙基對苯二胺鹽的指示試劑，不向該壓載水中注入碘化鉀，基于與所述壓載水中的殘余氧化劑反應(yīng)并顯色的所述指示試劑的吸光度，測定所述壓載水中的殘余氧化劑濃度，所述監(jiān)視裝置監(jiān)視利用所述殘余氧化劑濃度測定裝置測定的殘余氧化劑濃度在預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值以下。