[發明專利]高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備方法及其電解液

有效

• 申請號: 201110278388.8
• 申請日: 2011-09-19
• 公開（公告）號: CN102304739A
• 公開（公告）日: 2012-01-04
• 發明（設計）人: 劉雪峰;劉剛;謝建新
• 申請（專利權）人: 北京科技大學
• 主分類號: C25D11/02
• 分類號: C25D11/02
• 代理公司: 北京東方匯眾知識產權代理事務所(普通合伙) 11296
• 代理人: 朱元萍

1.一種高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備方法,其特征在于:包括以下步驟:

(1)?試樣前處理：將金屬試樣表面打磨光滑，然后除油，再用去離子水沖洗，晾干備用；

(2)?電解液配制：先將氫氧化鉀、檸檬酸鈉中的任一種或其混合，硅酸鈉、氟化鈉和陰離子型分散劑混合溶解，再添加WS₂顆粒，同時施加超聲和機械攪拌作用，使WS₂顆粒充分分散，制備出含有WS₂顆粒的懸浮電解液；

(3)?電參數設置：采取恒流模式，電流密度1~20A/dm²，頻率50~600Hz，占空比10~40%，陰陽極電流密度比0.8~1.4，反應時間15~60min；

(4)?微弧氧化：開啟循環冷卻水裝置，將金屬試樣連接至導電桿上浸入電解液中作為陽極，不銹鋼電解槽兼做陰極，開啟雙向脈沖電源，進行微弧氧化處理；

(5)?后處理：將微弧氧化處理后的試樣取出，用去離子水沖洗所得陶瓷層，自然晾干。

2.一種高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備電解液，其特征在于：所述高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備電解液的成分包括：氫氧化鉀和檸檬酸鈉中的至少一種、硅酸鈉、陰離子型分散劑和WS₂顆粒；其中，所述氫氧化鉀的濃度為1.0~5.0g/L，所述檸檬酸鈉濃度的濃度為0.5g/L~2g/L，所述硅酸鈉的濃度為1.0~10.0g/L，所述陰離子型分散劑的濃度為10~100mg/L，所述WS₂顆粒的濃度為10~50g/L。

3.根據權利要求2所述的高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備電解液，其特征在于：所述高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備電解液還包括氟化鈉，所述氟化鈉的濃度為1.0~5.0g/L。

4.根據權利要求2或3所述的高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備電解液，其特征在于：所述陰離子型分散劑為十二烷基苯磺酸鈉。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的高耐磨耐蝕自潤滑陶瓷層微弧氧化制備電解液，其特征在于：所述粒徑為1nm-3μm。