[發(fā)明專利]1053納米波段的金屬介質(zhì)膜反射式偏振分束光柵有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110275141.0 | 申請日： | 2011-09-16 |
| 公開（公告）號： | CN102289014A | 公開（公告）日： | 2011-12-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 關(guān)賀元;晉云霞;劉世杰;汪劍鵬;范正修 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18;G02B27/28 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 張澤純 |
| 地址： | 201800 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 1053 納米 波段 金屬 介質(zhì) 反射 偏振 光柵 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種用于1053納米波段的金屬介質(zhì)膜偏振分束光柵，其特征在于是在石英基底上，依次鍍制的銀層（6）、高反射膜層（5）和矩形光柵（1）構(gòu)成，該矩形光柵（1）的周期為680.6納米，占空比為0.2，銀層（6）厚度為100納米，刻蝕深度為374~476納米。
2.如權(quán)利要求1所述的金屬介質(zhì)膜偏振分束光柵，其特征在于所述的高反射膜層（5）由3層膜組成，中間層（3）為高折射率層，其材料為TiO2或Ta2O5，內(nèi)層（4）和外層（2）為低折射率膜層，其材料為SiO2，所述的高反射膜層是規(guī)整膜系，或是非規(guī)整膜系。
3.如權(quán)利要求1所述的金屬介質(zhì)膜偏振分束光柵，其特征在于所述的矩形光柵（1）的材料為HfO2。
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