[發明專利]有機電致發光用掩模

無效

• 申請號: 201110274804.7
• 申請日: 2011-09-09
• 公開（公告）號: CN102403465A
• 公開（公告）日: 2012-04-04
• 發明（設計）人: 大河原健;松館法治;黑木俊行
• 申請（專利權）人: 株式會社日立顯示器;佳能株式會社
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉

技術領域

本發明涉及有機電致發光用掩模，尤其涉及具有條狀圖案的開孔部的有機電致發光用掩模。

背景技術

在移動電話、攜帶式信息終端(PDA)、數碼相機、多媒體播放器等很多攜帶型的信息設備的顯示裝置中，利用有機電致發光(OLED)顯示裝置等的各種顯示裝置。OLED顯示裝置中，開發出了低分子OLED和高分子OLED，尤其是，OLED顯示裝置具有以薄型、自身發光等為代表的優良特征，另外，由于是直流低電壓驅動，因此具有液晶顯示裝置所不具備的優良特征。

在一般的低分子OLED顯示裝置中，通過真空蒸鍍法，使用蒸鍍用掩模對RGB的各發光層高精度地形成圖案，并通過對像素配列進行成膜的手法制造。另外，在高分子OLED顯示裝置中，還進行使用印刷法的圖案形成。以下，以蒸鍍用掩模為中心進行說明。

在OLED顯示裝置的制造中，蒸鍍用掩模的精度以OLED的蒸鍍成品率為代表，成為決定其精細度的一個支配性的要素。因此，蒸鍍用掩模的高精度化技術成為為推進OLED顯示裝置的高精細化的一個重要課題。另外，伴隨蒸鍍用掩模的高精細化，對掩模的節距精度的要求也日益嚴格。因此，對于在現有的具有200ppi級別的精細度的蒸鍍掩模中已足夠的節距精度來說，在具有300ppi級別的精細度的蒸鍍掩模中，節距精度還是不充分的。

為了應對OLED顯示裝置的高精細化，需要高精細且高精度的蒸鍍用掩模。另一方面，蒸鍍用掩模一般使用對掩模的金屬箔施加張力并具有被固定在支架上的形態的掩模，稱為張力掩模。因此，蒸鍍用掩模的節距精度相對于掩模金屬箔的節距精度的特征在于：成為加上了施加了張力后的伸長量以及伸長精度而得到的數值，為了制造高精度的蒸鍍用掩模，要求更高的技術。

以往，在高精細的OLED蒸鍍用掩模中一般使用條狀圖案(stripepattern)。作為使用這種條狀圖案的一個依據是：由于是無橋的開孔圖案因而具有能夠較大地設計掩模的開孔率的優點。另外，在條狀圖案的掩模的情況下，相對于垂直于像素的配列方向的方向，具有連續的開孔，因此，具有只要僅滿足配列方向的節距精度，蒸鍍掩模即可成立的優點。

另一方面，在與條狀圖案相比在強度方面具有優點的槽形圖案(slot?pattern)掩模的情況下，由于掩模上存在的橋的影響，掩模開孔率減少。而且，對于與像素配列方向垂直的方向也要求節距精度，因此，當將掩模的節距精度高精度化時，與條狀圖案掩膜的情況相比，技術上的難度提高。

掩模的制造方法，包括對金屬箔進行蝕刻而形成的蝕刻掩模、以電鑄法形成的電鑄掩模等。以下，以蝕刻掩模為例，利用圖1A～圖1F說明掩模的制造方法。圖1A中，對金屬箔M等的鋼材進行退火并進行表面處理。圖1B中，在金屬箔M的兩面上涂敷光致抗蝕劑膜PR。如圖1C所示，與掩模的開孔形狀相匹配地進行圖案曝光，并進行顯像，由此，將蝕刻的部位的光致抗蝕劑去除。圖1D表示蝕刻E開始的狀態，圖1E表示蝕刻結束的狀態。圖1F中，將光致抗蝕劑剝離從而完成蝕刻掩模。

在現有的蝕刻掩模的情況下，具有接下來要說明那樣的精度惡化要因的問題。如圖2B所示，容易發生因金屬掩模的條狀金屬肋部的位移而導致的掩模精度惡化。具體地，圖2A中概要地表示條狀的開孔規格的金屬掩模的開孔圖案。在正常狀態下，金屬掩模的開孔圖案(金屬部M、開孔部H)是具有規則準確的掩模開孔配列的設計規格。

在此，如圖2B所示，由于對金屬掩模施加有外力，因而金屬肋部位移，會發生由標記A的虛線所示那樣的精度異常部位。作為該情況的外力，能夠舉出對掩模進行搬運的過程中的振動、或異物與掩模開口部的接觸、以及玻璃基板向掩模上的接觸等。

另外，在掩模的因金屬肋部的位移而產生的精度異常部位，由于發生掩模的開孔徑的位移、掩模開孔位置的位移等，因此，不可能以所希望的蒸鍍精度成膜，會產生蒸鍍不良。

而且，在進行了與掩模的節距精度的高精度化相關的驗證后得知，產生掩模開孔的中心軸和開孔端部的頂點偏移會對掩模開孔圖案的精度惡化造成影響。也就是說，圖3A～圖3C是說明條狀圖案的開孔部的端部的形狀的圖，圖3A是將開孔部H的端部制成具有半圓形狀R的開孔端的圖。在這種端部形狀的情況下，實際的開孔端部形狀，由于蝕刻液的流動等的影響，如圖3B所示，成為火柴桿的頭那樣的形狀。關于這種形狀的變化，是在正面孔和背面孔同樣發生的現象。實線的輪廓是掩模正面側的開孔形狀FH，虛線的輪廓是掩模背面的開孔形狀BH。另外，圖3C是表示掩模的開孔部的截面的圖，標記FM表示掩模正面側，BM表示掩模背面側。