[發明專利]濕式電解電容器陰極的形成技術

在審

• 申請號: 201110273505.1
• 申請日: 2011-09-15
• 公開（公告）號: CN102403135A
• 公開（公告）日: 2012-04-04
• 發明（設計）人: M·比樂
• 申請（專利權）人: AVX公司
• 主分類號: H01G9/145
• 分類號: H01G9/145;H01G9/04;H01G9/042
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 譚志強

1.一種形成濕式電解電容器的方法，該方法包括：

在金屬基板粗化處理的表面涂覆前體溶液，其中該前體溶液包含取代噻吩單體和氧化催化劑，氧化催化劑的用量低于化學計算量；以及

聚合取代噻吩單體形成涂層，所述涂層包含本征導電的取代聚噻吩。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述取代聚噻吩具有通式（I）或通式（II）的重復單元或具有通式（I）和通式（II）的重復單元：

式中：

A是任選C₁-C₅烯烴取代基；

R是線性或支鏈的任選C₁-C₁₈烷基取代基；任選C₅-C₁₂環烷基取代基；任選C₆-C₁₄芳基取代基；任選C₇-C₁₈芳烷基取代基；任選C₁-C₄羥烷基取代基或羥基取代基；以及

x是0-8的整數。

3.根據權利要求2所述的方法，其中A是任選取代的C₂-C₃烯烴取代基，x是0或1。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述取代聚噻吩是聚（3,4-乙烯基二氧噻吩）。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述單體包括3,4-烯烴基二氧噻吩。

6.根據權利要求5所述的方法，其中所述單體包括3,4-乙烯基二氧噻吩或其衍生物。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述氧化催化劑包括無機酸的鐵鹽、有機酸的鐵鹽或它們的組合。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述氧化催化劑包括對甲苯磺酸鐵（III）、鄰甲苯磺酸鐵（III）或它們的組合。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述前體溶液大約含2摩爾以下催化劑每摩爾單體。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述前體溶液大約含0.8-1.4摩爾催化劑每摩爾單體。

11.根據權利要求1所述的方法，其中所述前體溶液包含極性質子溶劑、非極性溶劑、非質子溶劑或它們的組合。

12.根據權利要求1所述的方法，其中所述溶液在聚合前溫度保持在大約-10°C-15°C。

13.根據權利要求1所述的方法，其中所述金屬基板包括鈦、鉭或它們的組合。

14.根據權利要求1所述的方法，其中所述金屬基板的表面進行了機械研磨。

15.根據權利要求1所述的方法，其中所述金屬基板的表面進行了化學蝕刻、電化學蝕刻或它們的組合。

16.一種根據權利要求1所述的方法形成的濕式電解電容器，所述電容器包含陽極氧化的陽極、液體電解質和陰極。

17.一種形成濕式電解電容器的方法，該方法包括：

在金屬外殼粗化處理的表面涂覆前體溶液，其中該前體溶液包含取代噻吩單體和氧化催化劑，氧化催化劑的用量低于化學計算量；以及

聚合取代噻吩單體形成涂層，所述涂層包含本征導電的取代聚噻吩；以及

將涂覆好的金屬外殼與陽極和電解質電連接，其中陽極由包含介質層的多孔陽極體形成。

18.根據權利要求17所述的方法，其中所述陽極體包括鉭、鈮或它們的導電氧化物。

19.根據權利要求17所述的方法，其中所述液體電解質是水溶液。

20.根據權利要求17所述的方法，其中所述液體電解質的pH是4.5-7.0。

21.根據權利要求17所述的方法，其中所述液體電解質包括硫酸。

22.根據權利要求17所述的方法，其中所述外殼大致為圓柱形。