[發明專利]清洗組合物有效
| 申請號: | 201110270579.X | 申請日: | 2011-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN102965214A | 公開(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發明(設計)人: | 尹嚆重;洪憲杓;房淳洪;金炳默 | 申請(專利權)人: | 東友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分類號: | C11D7/26 | 分類號: | C11D7/26;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60 |
| 代理公司: | 上海旭誠知識產權代理有限公司 31220 | 代理人: | 鄭立;高為華 |
| 地址: | 韓國全羅北道*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清洗 組合 | ||
技術領域
本發明涉及一種清洗組合物,更具體地,涉及一種用于諸如液晶顯示器,等離子體顯示器,柔性顯示器和類似顯示器的平板顯示器(在下文中,稱之為“FPDs”)的清洗組合物。
背景技術
FPDs,其典型實例是液晶顯示器(LCDs),是通過膜形成,曝光,蝕刻以及諸如此類與半導體裝置同樣的工藝制造的。但是,在這些工藝中,具有1μm或以下尺寸的各種有機或者無機粒子附著到基板的表面,從而導致基板的污染。當帶著附著其上的粒子進行隨后的工藝時,在膜上形成針孔或坑,及線路斷裂或橋接,從而降低產品良率。因此,為了除去這些粒子,實施清洗工藝,因而開發出各種清洗劑。
這些清洗劑的除去有機或無機微粒的能力必須是優異的,且它們必須不腐蝕基板或由鋁、鋁合金、銅、銅合金或者類似物制成的且形成于基板上的金屬線。此外,為了容易地實施隨后的工藝,需要這些清洗劑提高清洗后基板的涂布性能。
韓國專利登記號10-0305314公開了一種包括不含金屬離子的堿性水溶液和具有2至10個羥基(-OH)的多羥基基團的清洗劑。但是,由于這種清洗劑不包含諸如乙二醇醚的有機溶劑,所以存在的問題是其不具有足夠的除去諸如油及其類似物的有機污染物的能力,和其不能充分顯示出在清洗后賦予基板表面親水性的效果。
此外,韓國專利登記號10-073052公開了一種包括乙二醇醚,水溶性有機溶劑和銨基化合物的清洗劑。然而,這種清洗劑在其能夠被有效使用在除去光致抗蝕劑工藝方面是有利的,但在其未賦予基板表面親水性方面和大量的有機溶劑殘留在基板上方面是有問題的,因而增加了基板的表面接觸角。
此外,韓國專利登記號10-0522845公開了一種清洗劑,包括:選自胺類和氟化物的至少一種溶解促進劑;和水溶性高分子化合物如聚乙烯吡咯烷酮。但是這種清洗劑也有問題,硅基玻璃基板或者氮化硅膜被添加的氟化物腐蝕,和金屬如銅也被腐蝕。
發明內容
因此,想出了本發明以解決上述問題,本發明的目的是提供一種清洗劑,其具有除去在制造FPD基板工藝過程中污染玻璃基板或者金屬膜的有機污染物或者粒子的優異能力,其具有防止由鋁、鋁合金、銅、銅合金或者類似物制成的金屬線被腐蝕的優異能力,和其具有賦予基板表面親水性以提高清洗后基板的涂層性能的優異能力。
為了完成以上目的,本發明的一個方面提供了一種能賦予基板的表面親水性的清洗組合物,包括:基于組合物總量,0.0001~5wt%的選自由聚乙烯醇、聚乙二醇(PEG)、纖維素、聚丙烯酸(PAA)、聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮組成的組中的至少一種水溶性高分子化合物;0.01~5wt%的多元醇化合物;0.05~10wt%的氫氧化季銨;0.05~40wt%的由以下分子式1表示的乙二醇醚基有機溶劑;和剩余的水。
分子式1
其中R1是甲基或乙基,R2是氫原子,n是2至5的整數,x是1至5的整數。
本發明的另一個方面提供了一種制造用于液晶顯示器的陣列基板的方法,包含使用所述的清洗組合物清洗基板的步驟。
附圖說明
由結合附圖的以下的詳細說明將更清楚地理解本發明的以上和其他的目的,特征和優點,其中:
圖1是顯示了使用根據本發明的實例16的清洗組合物從基板上除去油性筆污染物的結果的照片;
圖2是顯示了用來評估有機膜對被本發明的清洗組合物清洗過的基板的涂布能力的噴墨打印機示意圖;
圖3是顯示了評估有機膜對被本發明的清洗組合物清洗過的基板的涂布能力的方法的示意圖。
具體實施方式
在下文中,根據附圖詳細地說明本發明的優選的實施方式。
本發明提供一種能賦予基板的表面親水性的清洗組合物,包括:基于組合物總量,(a)0.0001~5wt%的選自由聚乙烯醇、聚乙二醇(PEG)、纖維素、聚丙烯酸(PAA)、聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮組成的組中的至少一種水溶性高分子化合物;(b)0.01~5wt%的多元醇化合物;(c)0.05~10wt%的氫氧化季銨;(d)0.05~40wt%的由以下分子式1表示的乙二醇醚基有機溶劑;和(e)剩余的水。
分子式1
其中R1是甲基或乙基,R2是氫原予,n是2至5的整數,x是1至5的整數。
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